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薄膜是一種物質(zhì)形態(tài)，它所使用的膜材料非常廣泛，可以是單質(zhì)元素或化合物，也可以是無機(jī)材料或有機(jī)材料。薄膜與塊狀物質(zhì)一樣，可以是單晶態(tài)的，多晶態(tài)的或非晶態(tài)的。近年來功能材料薄膜和復(fù)合薄膜也有很大發(fā)展。鍍膜技術(shù)及薄膜產(chǎn)品在工業(yè)上的應(yīng)用非常廣泛，尤其是在電子材料與元器件工業(yè)領(lǐng)域中占有及其重要的地位。
鍍膜方法可以分為氣相生成法，氧化法，離子注入法，擴(kuò)散法，電鍍法，涂布法，液相生長法等。氣相生成法又可分為物理氣相沉積法，化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法等。
真空蒸發(fā)，濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法，是基本的薄膜制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以，真空技術(shù)是薄膜制作技術(shù)的基礎(chǔ)，獲得并保持所需的真空環(huán)境，是鍍膜的必要條件。
真空系統(tǒng)的種類繁多。在實(shí)際工作中，必須根據(jù)自己的工作重點(diǎn)進(jìn)行選擇。典型的真空系統(tǒng)包括：獲得真空的設(shè)備（真空泵），待抽空的容器（真空室），測(cè)量真空的器具（真空計(jì)）以及必要的管道，閥門和其它附屬設(shè)備。
▲爐體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結(jié)構(gòu)。
▲加熱形式有電阻及感應(yīng)式兩種，電阻加熱材料有鉬絲（帶）、鎢絲（帶）、石墨棒（板）、鉭棒、鎳鉻絲（帶）幾種類型，可根據(jù)不同的溫度和工藝要求進(jìn)行選擇。
▲加熱保溫層有金屬型和復(fù)合型兩種，根據(jù)不同工藝條件進(jìn)行選擇。
▲真空系統(tǒng)由機(jī)械泵、擴(kuò)散泵、油增壓泵、增擴(kuò)泵、羅茨泵等以及與它們相匹配的各種氣動(dòng)、手動(dòng)、電動(dòng)閥門、管道等組成，根據(jù)工藝要求可自行選擇。
▲溫度控制系統(tǒng)可選擇不同類型的測(cè)溫儀、控溫儀表及它們的傳感元件。
▲真空測(cè)量可選擇數(shù)字式智能真空計(jì)及優(yōu)質(zhì)的測(cè)量規(guī)管，確保真空度的準(zhǔn)確性及產(chǎn)品可靠性。
▲可以配備多點(diǎn)記錄儀，進(jìn)行全程工藝分析、質(zhì)量監(jiān)控及生產(chǎn)管理。
▲根據(jù)設(shè)備使用特點(diǎn)，可選擇手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)或其組合的控制方式。
▲可根據(jù)使用要求配有各種充氣類型、質(zhì)量流量計(jì)、浮子流量計(jì)等，滿足充氣壓力可控、多路充氣等要求。
▲對(duì)超溫、溫度偏差大、爐體、泵、熱交換器等缺水、擴(kuò)散泵缺相、爐體充氣過壓、氣源壓力不足、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行聲光報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。
▲快冷卻系統(tǒng)可選擇自然冷卻及熱交換器循環(huán)方式，對(duì)于容量大的電爐可采用外循環(huán)快冷卻系統(tǒng)，提高降溫速度。
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