硫是有害的雜質(zhì),在鋼中要嚴(yán)格限制其含量。硫作為常規(guī)分析非金屬元素,其激發(fā)產(chǎn)生的特征波長較長,能量較低,受光路的影響較大,所以它是光譜儀分析元素中較為敏感的元素。在日常分析中,儀器的飄移,如電源異常、設(shè)備震動、光電倍增管的老化等所造成的影響對硫來說,激發(fā)強(qiáng)度一般都是向低端偏離,容易出現(xiàn)數(shù)據(jù)的不準(zhǔn)確性。
1.氬氣的影響
氬氣能夠防止試樣表面被氧化,提高背景與譜線的強(qiáng)度之比,穩(wěn)定激發(fā)的質(zhì)量。硫分析的穩(wěn)定性,與氬氣的流量,壓力的穩(wěn)定有關(guān),同時也受到氬氣純度的影響。
氬氣的影響分為三個方面:(1)氬氣不純;(2)氬氣流量太小;(3)氬氣的靜態(tài)流量。
(1)氬氣不純時硫的強(qiáng)度有一定程度的波動,一般表現(xiàn)為無規(guī)律的偏低,標(biāo)準(zhǔn)化無法消除影響,這種影響很容易發(fā)現(xiàn),一旦氬氣不純,激發(fā)表現(xiàn)為聲音異常,聽起來尖銳,另外激發(fā)點(diǎn)也不正常。當(dāng)氬氣嚴(yán)重不純時激發(fā)點(diǎn)發(fā)白,輕度不純時點(diǎn)的邊緣有白花存在,因為氬氣中有氧存在會再激發(fā)初期與金屬原子結(jié)合而形成氧化層,干擾甚至破壞整個激發(fā)過程,使硫的強(qiáng)度受到不同程度的影響。消除這一影響的關(guān)鍵在于:保證氬氣的純度不低于99.995%,且管路的氣密性良好。
(2)氬氣流量和壓力太小的影響。氬氣流量和壓力決定氬氣對試樣放電表面的沖擊力,若氬氣的流量和壓力太小造成沖擊力低,不足以將試樣激發(fā)過程中產(chǎn)生的氧和氧化物沖洗掉,而這些氧化物會凝聚在樣品表面和電極上,抑制試樣的繼續(xù)蒸發(fā),造成硫元素沒有*蒸發(fā)而最后分析結(jié)果的偏低(這種現(xiàn)象對其他元素也適應(yīng))。氬氣流量和壓力使激發(fā)室內(nèi)氬氣不足,使激發(fā)質(zhì)量不好或激發(fā)不*,硫的強(qiáng)度表現(xiàn)為嚴(yán)重偏低甚至沒有,只要增大氬氣流量就可以解決,在正常分析前首要檢查氬氣的流量壓力表,輸出壓力控制在2.2Mpa-2.5Mpa之間,流量在3.5L/min。
(3)氬氣的靜態(tài)流量影響。光譜儀在待機(jī)或一段時間內(nèi)不分析時要保證一定的靜態(tài)流量,靜態(tài)氬的流量控制大約0.2~0.5L/min,光路內(nèi)無靜態(tài)氬或靜態(tài)氬不足,會影響200nm以下的元素的光強(qiáng)值,S的光強(qiáng)值表現(xiàn)為偏低并伴隨不穩(wěn)定,隨著時間的推移光強(qiáng)值不斷升高。這種現(xiàn)象的處理辦法很簡單,多激發(fā)幾次并等待時間30分鐘以上。(這種現(xiàn)象也適用于C和P元素)
2.入射狹縫因震動而位移所產(chǎn)生的影響
入射狹縫在光電直讀光譜儀中很重要,從成像關(guān)系上來看,光譜儀是入射狹縫的單色象,入射狹縫的質(zhì)量和位置的精確直接影響光譜線的質(zhì)量。入射狹縫因震動而位移這一情況在短時間并無明顯表現(xiàn),且一般不易察覺,這時可對內(nèi)標(biāo)線進(jìn)行掃描。另外分析室內(nèi)溫濕度的波動幅度過大也可以使元素譜線偏離出射狹縫。
3.透鏡污染造成的影響
試樣激發(fā)過程中產(chǎn)生金屬粉塵和氣體,這些粉塵氣體大部分會隨著氬氣進(jìn)入過濾系統(tǒng),也有少量的粉塵S蒸汽會經(jīng)光路通道到達(dá)透鏡處并因透鏡的高溫吸附在透鏡的表面,較長時間后,會在透鏡的表面形成黃色附著層,造成透光率的下降,影響測定的絕對強(qiáng)度。
只要不是透鏡異常的情況下的深度污染,漂移校正可以消除這一影響。為了保持儀器的更佳狀態(tài)每個月清洗透鏡一次。
相關(guān)產(chǎn)品
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:化工儀器網(wǎng)”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用,并注明“來源:化工儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非化工儀器網(wǎng))的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點(diǎn)和對其真實(shí)性負(fù)責(zé),不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源,并自負(fù)版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。