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Si晶片和化合物晶片的高速加熱裝置介紹

來源:深圳市秋山貿易有限公司   2022年07月19日 17:41  

Si晶片和化合物晶片的高速加熱裝置介紹

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臺式燈加熱器 MILA-5050

該設備是一種臺式燈加熱設備,可以對最大 50 平方毫米的樣品進行熱處理。
自 MILA-5000 系列臺式燈加熱器作為樣品尺寸達 20 平方毫米的加熱裝置推出以來,已被許多客戶使用。 50 平方毫米,同時保持集成加熱爐、腔室和溫度控制器的緊湊型機身。

用途

  • Si晶片和化合物晶片的高速加熱

  • 光學CVD基板加熱等電子材料的高速加熱

  • 玻璃基板、陶瓷、復合材料等的熱處理。

  • 熱循環測試

  • 金屬材料的退火

  • 涂膜耐熱性評價

  • 有機材料和樹脂的加熱和干燥

特征

  • 熱處理可達到 50 平方毫米的樣品尺寸

  • 最高溫度1200℃

  • 可高速加熱和冷卻的紅外金像 臺式加熱裝置,集成加熱室和溫度控制器

  • 您可以輕松設置溫度程序并從個人計算機輸入外部信號。

  • 可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數據。

規格

溫度范圍室溫~1200℃
升溫速率50℃/秒
樣品尺寸正方形 50 或 φ 50 毫米 x 厚度 5 毫米
加熱氣氛在真空中,在各種氣流中

* 真空排氣裝置是一個選項
* 加熱溫度因被加熱材料的紅外反射/吸收、熱容量和材料而異。

測量數據

  • ① 500℃,Δt=3.2℃

  • ② 800℃,Δt=0.6℃

  • ③ 1000℃,Δt=4.2℃

  • ④ 1200℃,Δt=2.6℃



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