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在半導體芯片制造、MEMS器件加工及光學薄膜研發中，微米級甚至納米級的臺階高度直接決定器件性能。澤攸臺階儀憑借高精度非接觸測量、自動化數據分析與多場景適配，成為微納結構表征的“黃金工具”。其核心技術融合了光學干涉、精密運動控制與智能算法，將臺階高度測量精度推向亞納米級，為微納制造提供從研發到量產的全流程質量保障。
一、光學干涉核心：納米級測量的“光影密碼”
1.白光干涉技術
①采用寬帶LED光源，通過邁克爾遜干涉儀生成等厚干涉條紋，利用垂直掃描干涉（VSI）模式實現大范圍（10μm-2mm）臺階測量；
②相移干涉（PSI）模式通過壓電陶瓷驅動參考鏡步進移動（步長λ/8），結合傅里葉變換算法提取相位信息，分辨率達0.01nm。
2.抗干擾設計
①雙光路補償系統消除環境振動與空氣折射率波動影響，測量重復性<0.05nm；
②偏振分光棱鏡（PBS）隔離雜散光，信噪比提升40dB，適應潔凈室與普通實驗室環境。
二、精密運動系統：從“微米級位移”到“納米級控制”
1.閉環壓電掃描臺
①采用三軸壓電陶瓷驅動器，配合電容位移傳感器，實現樣品表面亞納米級步進掃描；
②振動隔離平臺抑制地面震動，確保長行程測量穩定性。
2.智能掃描策略
①自適應步長算法：根據表面粗糙度動態調整掃描密度，平衡速度與精度；
②拼接測量功能：支持100mm×100mm大樣品分區掃描，自動對齊誤差<50nm。
三、智能分析與報告：從“原始數據”到“工藝決策”
1.三維形貌重建
①基于Zernike多項式擬合去除表面波紋度，生成無失真三維形貌圖；
②粗糙度參數自動計算，符合ISO 4287標準。
2.AI輔助缺陷識別
①深度學習模型標注臺階邊緣毛刺、塌陷等缺陷，分類準確率>98%；
②數據庫比對功能：將測量結果與工藝設計值對比，生成偏差熱力圖，指導光刻、刻蝕參數優化。
四、應用場景：從晶圓制造到生物芯片
1.半導體領域：測量光刻膠臺階高度，驗證蝕刻深度均勻性；
2.微流控芯片：評估PDMS微通道深度，確保流體阻力一致性；
3.光伏產業：檢測PERC電池背面鈍化層厚度，提升光電轉換效率。
澤攸臺階儀不僅是測量工具，更是微納制造的“工藝醫生”。從LED芯片的量子阱厚度控制到生物傳感器金膜的納米級平整度檢測，其技術突破讓微觀世界的“毫厘之差”無所遁形。未來，隨著原位加熱/冷卻模塊與多物理場耦合功能的加入，澤攸臺階儀或將實現動態過程測量，為下一代半導體與量子器件研發提供更強大的“納米顯微鏡”。對于追求精度的工程師而言，這臺儀器正是打開微納世界大門的“金鑰匙”。
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