Filmetrics F20便攜式膜厚測試儀 Filmetrics簡介 世界*,經濟有效的Filmetrics薄膜厚度測量系統,測量薄膜厚度僅需幾秒鐘。 Filmetrics 膜厚測試儀產品輕點鼠標就能測量1納米到13毫米的薄膜厚度。幾乎所有的材料都可以被測量。直觀的設計意味著您能在幾分鐘內完成*個薄膜厚度測量! 1.只需要運行基于Windows的軟件,連接Filmetrics設備,然后,開始測量。 2.方便地存儲或輸出詳細測量資料。 3.快速地將我們的厚度測量系統與其它系統通過.NET軟件整合。 每秒兩個點薄膜測繪F20 薄膜厚度的測量系統 測量反射率和透射率 測量光斑小至1微米(μm) 每秒兩個點薄膜測繪 自動晶圓處理系統 Filmetrics F20產品簡介: 1 有五種不同波長選擇(波長范圍從紫外220nm至近紅外1700nm); 2 zui大樣品薄膜厚度的測量范圍是:3nm ~ 25um; 3 精度為好于0.1nm。 產品特性: 1 、操作簡單、使用方便; 2 、測量快速、準確; 3 、體積小、重量輕; 4 、價格便宜。 Filmetrics F20產品應用: 1 、半導體行業: 光阻、氧化物、氮化物; 2 、LCD 行業: 液晶盒間隙厚度、 Polyimides;用f20來測量透明的藍寶石上的光刻膠,ito,多層氧化硅氧化鈦等薄膜厚度,該機操作簡易,毫秒間就能測量出準確的數據。 3 、光電鍍膜應用: 硬化膜、抗反射膜、濾波片。 Filmetrics F20的技術 我們通過分析光如何從薄膜反射來測量薄膜厚度。通過分析肉眼看不見的光譜我們能測量幾乎所有超過100原子厚度的非金屬薄膜。因為不涉及任何移動設備,幾秒鐘之內就能測出:薄膜厚度,折射率,甚至粗燥度! 其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間,測量精度高達1埃,測量穩定性高達0.7埃,測量時間只需一到二秒, 并有手動及自動機型可選。可應用領域包括:生物醫學(Biomedical), 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導體材料(Semiconductors) , 太陽光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。 通過Filmetrics膜厚測量儀反射式光譜測量技術,zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用廣泛,例如 : 半導體工業 : 光阻、氧化物、氮化物。 LCD工業 : 間距 (cell gaps),ito電極、polyimide 保護膜。 光電鍍膜應用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。 極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優點,Filmetrics提供以下型號以供選擇: F20 : 這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區 至1700nm近紅外線區)為任意攜帶型,可以實現反射、膜厚、n、k值測量。 F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口。可實時監控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。更可加裝至三個探頭,同時測量三個樣品,具紫外線區或標準波長可供選擇。 F40:這型號安裝在任何顯微鏡外,可提供zui小5um光點(100倍放大倍數)來測量微小樣品。 F50:這型號配備全自動XY工作臺,由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能,可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。 F70:僅通過在F20基本平臺上增加鏡頭,使用Filmetrics的顏色編碼厚度測量法(CTM),把設備的測量范圍極大的拓展至3.5mm。 F10-RT:在F20實現反射率跟穿透率的同時測量,特殊光源設計特別適用于透明基底樣品的測量。 PARTS:在垂直入射光源基礎上增加70?光源,特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測量。 膜厚測量儀系統F20 使用F20分光計系統可以簡便快速的測量厚度和光學參數(n和k)。您可以在幾秒鐘內通過薄膜上下面的反射比的頻譜分析得到厚度、折射率和消光系數。任何具備基本電腦技術的人都能在幾分鐘內將整個桌面系統組裝起來。 F20包括所有測量需要的部件:分光計、光源、光纖導線、鏡頭集合和Windows下運行的軟件。您需要的只是接上您的電腦。 膜層實例 幾乎任何光滑、半透明、低吸收的膜都能測。包括: sio2(二氧化硅) sinx(氮化硅) dlc(類金剛石碳)photoresist(光刻膠) polyer layers(高分子聚合物層) polymide(聚酰亞胺) polysilicon(多晶硅) amorphous silicon(非晶硅) 基底實例:對于厚度測量,大多數情況下所要求的只是一塊光滑、反射的基底。對于光學常數測量,需要一塊平整的鏡面反射基底;如果基底是透明的,基底背面需要進行處理使之不能反射。 包括: silicon(硅) glass(玻璃) aluminum(鋁)gaas(砷鎵) steel(鋼) polycarbonate(聚碳酸脂) polymer films(高分子聚合物膜) 應用 半導體制造 | 液晶顯示器 | 光學鍍膜 | photoresist光刻膠 oxides氧化物 nitrides氮化物 | cell gaps液晶間隙 polyimide聚酰亞胺 ito納米銦錫金屬氧化物 | hardness coatings硬鍍膜 anti-reflection coatings增透鍍膜 filters濾光 |
f20 使用仿真活動來分析光譜反射率數據。 標準配置和規格 | F20-UV | F20 | F20-NIR | F20-EXR | 只測試厚度 | 1nm ~ 40μm | 15nm ~ 100μm | 100nm ~ 250μm | 15nm ~ 250μm | 測試厚度和n&k值 | 50nm and up | 100nm and up | 300nm and up | 100nm and up | 波長范圍 | 200-1100nm | 380-1100nm | 950-1700nm | 380-1700nm | 準確度 | 大于 0.4% 或 2nm | 精度 | 1A | 2A | 1A | 穩定性 | 0.7A | 1.2A | 0.7A | 光斑大小 | 20μm至1.5mm可選 | 樣品大小 | 1mm至300mm 及更大 | 探測器類型 | 1250-元素硅陣列 | 512-元素 砷化銦鎵 | 1000-元素 硅 & 512-砷化銦鎵陣列 | 光源 | 鎢鹵素燈,氚燈 | 電腦要求 | 60mb 硬盤空間 50mb 空閑內存 usb接口 | 電源要求 | 100-240 vac, 50-60 hz, 0.3-0.1 a |
美國Filmetrics薄膜測厚儀代理公司 美國Filmetrics F-20 F-30 F-40等等價格好,貨期短。 
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