高感光度標準G線正型光刻膠
AZ1500系列i線光刻膠
為廣泛應用于半導體制造領域而優化的高感光度G線正型光刻膠
特征：
1) 高感光度,高產出率
2) 高附著性,特別為濕法刻蝕工藝改進
3) 廣泛應用于全球半導體行業
AZ1500系列i線光刻膠參考工藝條件：
前烘 ：100℃ 60秒 (DHP)
曝光 ：G線步進式曝光機/接觸式曝光機
顯影 ：AZ300MIF (2.38%) 23℃ 60秒 Puddle
清洗 ：去離子水30秒
后烘 ：120℃ 120秒 (DHP)
剝離 ：AZ剝離液及/或氧等離子體灰化
產品型號：AZ1500
Viscosity:4.4mPa 20mPa 38mPa 90mPa
AZ1500系列i線光刻膠 旋涂曲線：
AZ1500系列i線光刻膠 圖案輪廓：
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