400毫米到2000毫米柔性基板在自由跨度方向和范圍廣泛的配置,適合高溫和腐蝕過程。

　　這個系列是一個Orion平臺模塊化沉積近乎無限范圍的配置。標準卷處理和驅動機制納入定制沉積區。野馬的開放室設計主體提供了源配置的靈活性,同時還能使快速的預防性維修周期,使Orion系列zui多的時間用于卷材的沉積。

　　溫度增加,冷卻和均勻性是關鍵的，驅動程序在柔性襯底上沉積大格式，提供了一個Orion平臺免費為范圍廣泛的加熱、冷卻和沉積源配置。

　　單或雙側碰的柔性基板提供了全面的網絡寬度以及可選的插頁提供襯底和薄膜層保護整個制造過程。

　　空氣和過渡室被獨立，在沉積面積允許快速輥變化沒有暴露大氣暴露到過程。“Orion”系列達到的正常運行時間,實現完整的輥變化在不到3個小時。

　　幾個配置可供優化過程基于溫度、沉積方法、源尺寸和取向。

　　精密溫度控制滾筒90英寸的直徑

　　●±1%或1℃溫度控制在滾筒表面

　　●-100℃到+ 300℃溫度配置

　　●網絡速度選項

　　0.1 - 5米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　1.0 - 15米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　10 - 50米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　注入沉積區域差異提供2來源/區

　　●X沉積區為正面涂層總計高達X源位置

　　●X沉積區為背面涂層總計高達X源位置

　　沉積選項

　　●可旋轉的或平面磁控管濺射陰極

　　●標準功率配置- RF、脈沖直流,直流、交流和HIPIMS

　　●每個沉積位置也可以配置為下面的沉積來源

　　●PECVD方法,離子源,XXXXX

　　設施需求

　　●近似系統尺寸,長度,寬度和間隙區域

　　●冷凍水系統

　　●電力需求依賴于源配置

　　●多個的地面接地連接\

　　●潔凈室的兼容性

　　●網絡連接或線路