產品名稱：PECVD等離子增強化學氣相沉積系統
產品型號：TF1200
PECVD等離子增強化學氣相沉積系統TF1200特征描述: 
此款設備配有Plasma實現等離子增強，滑軌式設計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調裝置，可準確的控制反應腔體內部的氣體壓力，帶刻度的調節閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
TF1200主要功能和特點：
1、利用輝光放電產生等離子體電子激活氣相；
2、提高了氣相反應的沉積速率、成膜質量；
3、可通過調整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
TF1200:
1、實驗中心：提供免費實驗服務（特殊材料實驗除外），幫助客戶了解電爐設備及實驗物品的性能等參數。(新用戶限免費實驗1次，老用戶*)。
2、技術咨詢：免費為客戶提供電爐設備與實驗材料相關的技術咨詢、常規技術服務等，設備配件更換，僅收成本費。
3、非標訂制：可根據實際客戶需要訂制爐膛尺寸，配置相應的對應規格配件。