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MS450真空鍍膜設(shè)備PX 2502
KaRon 設(shè)備部件鍍膜設(shè)備PX 2000
KVT電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)PX 3074
Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2423
FL-800N物理氣相沉積設(shè)備(PVD)冷水機(jī)-冷卻系統(tǒng)PX 7014
FPSEM-STE-MS900磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)PX 3622
MS450磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 2502
MS450實驗室鍍膜機(jī)PX 2502
EC400蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 2502
EC400蒸發(fā)鍍膜機(jī)PX 2502
EC400熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 2502
MS450多功能鍍膜設(shè)備PX 2502
MS450科研鍍膜機(jī)PX 2502
MS450小型鍍膜設(shè)備PX 2502
MS450小型真空鍍膜機(jī)PX 2502
MS450實驗室真空鍍膜設(shè)備PX 2502
MS450鍍膜設(shè)備PX 2502
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 2502
熱蒸發(fā)鍍膜設(shè)備_杭州推薦-江蘇雷博PX 2502
PVD-BATCH DRUM薄膜沉積PVD設(shè)備PX 2000
Super-SPECTROS™ 200有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 2000
SPECTROS™ 150有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)PX 2000
Mini SPECTROS沉積和金屬化系統(tǒng)PX 2000
NANO 36™濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 2000
LAB Line磁控濺射鍍膜設(shè)備PX 2000
PRO Line PVD 200多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺PX 2000
PRO Line PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺PX 2000
NEXUS物理氣相沉積PVDPX 2000
NANO 36™熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
PLD450高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
PLD300高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
FJL560高真空磁控濺射與離子束復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)PX 2000
NEXUS IBD-LDD離子束沉積設(shè)備PX 2000
埃沃維克EvoVac 物理氣相沉積平臺PX 2000
EC400高真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備PX 2000
Amod物理氣相沉積平臺PX 2000
NEXDEPAE物理氣相沉積平臺PX 2000
COVAP科瓦普物理氣相沉積平臺PX 2000
MS450多靶磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 2000
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統(tǒng)
Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)
磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)
部件鍍膜設(shè)備
薄膜沉積PVD設(shè)備
有機(jī)薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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