線列式PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
- 品牌
- 型號
- 產地
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2019/5/23 17:22:32
- 訪問次數 361
產品標簽
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| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 面議 |
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設備用途
本設備采用等離子體增強化學氣相沉積技術，線列式PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，用以制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
設備組成
線列式PECVD等離子體化學氣相沉積鍍膜設備多室CVD結構由2個進出片室、3個獨立PECVD反應真空室按直線結構連接，工件通過傳輸機構輸送到各個真空室中進行工藝處理，各真空室間用插板閥連接。該系統主要由真空室、真空獲得系統、射頻和甚高頻電源、襯底加熱控溫系統、氣路系統、尾氣處理系統、傳動系統等部分組成。
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