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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>ICP-500D ICP等離子沉積系統-SI 500D

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ICP-500D ICP等離子沉積系統-SI 500D

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公司自成立以來就一直專注于半導體、微組裝和電子裝配等領域的設備集成和技術服務;目前公司擁有一支在半導體制造、微組裝及電子裝配等領域經驗豐富的專業技術團隊,專業服務于混合電路、光電模塊、MEMS、先進封裝(TSV、Fan-out等)、化合物半導體、微波器件、功率器件、紅外探測、聲波器件、集成電路、分立器件、微納等領域。我們不僅能為客戶提供整套性能可靠的設備,還能根據客戶的實際生產需求制訂可行的工藝技術方案。
目前亞科電子已與眾多微電子封裝和半導體制造設備企業建立了良好的合作關系(如:BRUKER、EVG、TRYMAX、CAMTEK、CENTROTHERM、SENTECH、ENGIS、ADT、SONOSCAN、ASYMTEK、MARCH、PANASONIC、HYBOND、OKI、KEKO等),為向客戶提供先進的設備和專業的技術服務打下了堅實基礎。

 

半導體設備,微組裝設備,LTCC設備,化工檢測設備

應用領域 電子/電池

SENTECH ICP等離子沉積系統-SI 500D


是主流的半導體設備商,研發、制造和銷售良好的薄膜測量儀器(反射儀、橢偏儀、光譜橢偏儀)和等離子工藝設備(等離子刻蝕機、等離子沉積系統、用戶定制系統)。

SI 500D等離子沉積系統是ICP-PECVD設備,利用ICP高密度等離子源來沉積電介質薄膜。可在極低溫度下(< 100oC)沉積高質量SiO2, Si3N4, 和SiOxNy薄膜。可以實現沉積薄膜厚度、折射率、應力的連續調節。



SI 500 D主要特點:

  • 適用于8寸以及以下晶片

  • 低溫沉積高質量電介質膜:80°C~350°C

  • 高速率沉積

  • 低損傷

  • 薄膜特性 (厚度、折射率、應力) 連續可調

  • 平板三螺旋天線式PTSA等離子源 (Planar Triple Spiral Antenna)

  • SENTECH高級等離子設備操作軟件

  • 穿墻式安裝方式


系統配置:




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