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Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000

具體成交價以合同協議為準

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柜谷科技發展(上海)有限公司專注于為科研工作者和質量控制人員提供一站式實驗室產品與配套服務,致力于成為科學服務領域的變革者。公司通過自主研發、品牌運營、品牌代理、實驗室設計規劃方案等方式為生物醫藥、新材料、新能源、化工化學、精細化工、食品日化、分析檢測等領域的實驗室提供的綜合服務,覆蓋客戶的研發準備、研發過程、研發后期、生產質控等各個階段,提供“一站式”有競爭力的產品和服務,是國內的科學服務提供商。

 

為什么選擇我們?

• 我們的服務是什么?
我們建立“安枕無憂”的售前、售后服務體系,提供信息咨詢、技術支持和維保服務,為您的實驗室運營保駕護航。

• 我們的優勢是什么?
我們整合一體化背景下的資源優勢,為您提供專業、綜合、合理的采購供應計劃,節省運營成本。產品資源豐富,擁有眾多代理權,如: Thermo Fisher、HAAKE、WIGGENS、Hitachi、Binder、Rigaku、Picarro等。

• 我們的目標是什么?
創新技術解決方案,創新供應鏈整合,創新售后保障。我們銷售的,不僅僅是產品,更多的是服務。創新服務,讓我們做的比昨天更好

我們的市場


高校  研究院

新能源 膠粘劑 石化 油漆涂料

制藥 生命科學

流變儀,粘度計,擠出機,質構儀,紫外分光光度計,X射線衍射儀,熒光光譜儀

產地類別 進口 價格區間 面議
應用領域 醫療衛生,環保,生物產業,文體

Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000(Hitachi Ion Sputter )采用了電磁管電極,能夠大限度地減輕對樣品的損壞,并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。
z大樣品直徑:60 mm
z大樣品高度:20 mm
 

Hitachi日立高新磁控濺射器MC1000?特點:
采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件
可處理較厚或較大的樣品(選配件)
記憶功能可存儲常用加工條件

規格:

 

項目說明
放電類型磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓大0.4Kv DC(直流可變)
電流大40mA DC

噴鍍速率(大)[條件]

壓力:7Pa

放電電流:40mA

標靶與樣品表面之間的距離:20mm

Pt靶(選配件)15nm/min
Pt-Pd靶(選配件)20nm/min
Au靶(選配件)35nm/min
Au-Pd靶(選配件)25nm/min
樣品尺寸大直徑Ф60mm
大高度20mm
機械泵135/162 L/min(50/60Hz)
靶材﹡²Pt, Pt-Pd (8: 2), Au, Au-Pd(6: 4)
電源要求單相,100VAC(±10%)15A(50/60Hz)3-針插頭線纜(3m)
尺寸寬度450mm
長度391mm
高度390mm
重量主機:約25Kg 機械泵:約28kg

﹡¹:噴鍍速率僅供參考

﹡²:主機內不包括靶材。請從選項中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)


注:該儀器未取得中華人民共和國醫療器械注冊證,不可用于臨床診斷或治療等相關用途



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