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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法清洗設備>M+200-CC 晶圓清洗機

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M+200-CC 晶圓清洗機

參考價30000-1200000/臺
具體成交價以合同協議為準

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經營范圍一般項目:半導體器件專用設備制造半導體器件專用設備銷售:電工


機械專用設備制造:電子元器件制造:電子專用設備制造:集成電路芯片及產品制造:半導體分立器件制造,技術服務,技術開發,技術咨詢,技術交流、技術轉讓、技術推廣:電力電子元器件制造:機械零件、零部件加工:實驗分析儀器制造;數控機床制造;配電開關控制設備制造;機械電氣設備制造;工業自動控制系統裝置制造;金屬加工機械制遭;電工儀器儀表銷售;機械電氣設備銷售;自然科學研究和試驗發展:實驗分析儀器銷售;智能控制系統集成;五金產品零售:儀器儀表制造1儀器儀表鑰售1金屬材料銷售;計算機軟硬件及輔助設備零售:高品質合成橡膠銷售;信息咨詢服務(不含許可類信息咨詢服務)專用設備制造(不含許可類專業設備制造),電子產品銷售,札儀服務:生態環境監測及檢測儀器僅表銷售;機械設備銷售;軟件開發:信息技術咨詢服務;機根設備租賃:五金產品批發:化工產品銷售(不含許可類化工產品),橡膠制品鑰售;橡膠制品制造;專用設備修理,電氣設備修理,通用設備修理:翻澤服務;進出口代理,技術進出口,貿易經紀(賒依法領經批準的項目外,憑營業執照依法自主開展經營活動)。


勻膠機、顯影劑

  • APM1#液去表面顆粒及金屬雜質

  • HPM2#液去金屬粒子

  • SPM3#,去污及部分金屬

  • DHF去氧化層和金屬粒

  • .適應方形基片尺寸:8×8inch基片 用途:可用于掩膜版表面污染物的清除。

  • 清洗方式:是由電機通過夾持機構帶動掩膜板做離心式旋轉。

  • ?配合常壓水清洗

  • ?高壓水清洗

  • ?兆聲波清洗

  • ?毛刷(Brush)清洗

  •  ?有機溶劑清洗等方式子水沖洗

清洗腔體材質:不銹鋼材料的套件,腔體便于實現氣液有效分離,提高了清洗的潔凈度;拾取方式:上下載片采用手動; 掩膜板的固定方式:通過多點支撐、四角夾緊、機械安全限位的方式

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