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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>濕法工藝設備>濕法腐蝕/刻蝕設備>M+500-EE 銦絲拋光機

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M+500-EE 銦絲拋光機

參考價50000-200000/臺
具體成交價以合同協議為準

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經營范圍一般項目:半導體器件專用設備制造半導體器件專用設備銷售:電工


機械專用設備制造:電子元器件制造:電子專用設備制造:集成電路芯片及產品制造:半導體分立器件制造,技術服務,技術開發,技術咨詢,技術交流、技術轉讓、技術推廣:電力電子元器件制造:機械零件、零部件加工:實驗分析儀器制造;數控機床制造;配電開關控制設備制造;機械電氣設備制造;工業自動控制系統裝置制造;金屬加工機械制遭;電工儀器儀表銷售;機械電氣設備銷售;自然科學研究和試驗發展:實驗分析儀器銷售;智能控制系統集成;五金產品零售:儀器儀表制造1儀器儀表鑰售1金屬材料銷售;計算機軟硬件及輔助設備零售:高品質合成橡膠銷售;信息咨詢服務(不含許可類信息咨詢服務)專用設備制造(不含許可類專業設備制造),電子產品銷售,札儀服務:生態環境監測及檢測儀器僅表銷售;機械設備銷售;軟件開發:信息技術咨詢服務;機根設備租賃:五金產品批發:化工產品銷售(不含許可類化工產品),橡膠制品鑰售;橡膠制品制造;專用設備修理,電氣設備修理,通用設備修理:翻澤服務;進出口代理,技術進出口,貿易經紀(賒依法領經批準的項目外,憑營業執照依法自主開展經營活動)。


勻膠機、顯影劑

設備名稱、數量

硝酸拋光清洗機   壹臺

2.工藝參數

 1)處理對象:、銦環材料的拋光、清洗、脫水工藝(特制專用裝夾工具);

 2)藥液處理槽數量:共有三個清洗槽,分別為:硝配拋光槽、去離水的沖洗槽、酒精脫水槽;

用于IC生產及元器件生產中晶片的 濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去 除晶片表面的有機物、顆粒、金屬 雜質、自然氧化層及石、塑料等附 件器皿的污染物。廣泛用于拋光片、擴散前、CMP后、氧化前及光刻后等關鍵工藝的清洗

處理對象:、銦環材料的拋光、清洗、脫水

本設備主要用于激光陀螺儀及一些異形基片小孔的酸洗微晶玻璃零件的內孔,酸洗方式為將酸液通過密封管道沿零件表面的孔注射到零件的內腔中,并從內腔的另一端排出

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