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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>化學氣相沉積設備>HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統

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HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1. 產品概述

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD  氣相沉積系統,半導體客戶端機臺裝機量大,可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺可提供優良成熟的 MES 系統解決方案.優異的工藝技術支持。

2. 設備用途/原理

HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統半導體客戶端機臺裝機量大可根據客戶需求配置多工藝組合的機臺高可靠性、穩定性 Higher reliability and stability安全性能高:設備及所使用的元件符合國標和國際標準可提供優良成熟的 MES 系統解決方案優異的工藝技術支持

3. 設備特點

晶圓尺寸 4、6、8 英寸適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵適用工藝  氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃適用域  科研、化合物半導體




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