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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統

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eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

1. 產品概述

eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統，優良的磁控濺射系統，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。

2. 設備用途/原理

eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統，優良的磁控濺射系統，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率，加熱基座和高溫靜電卡盤設計，具備良好的溫度均勻性，全新雙腔傳輸平臺，可配置性強，多可支持 10 個工藝模塊，優質的 Whisker 解決方案，降低產品缺陷，大產能，低運營成本。

3. 設備特點

晶圓尺寸 8、12 英寸，適用材料 高溫鋁、氮化鉭、氮化鈦。適用工藝 熱鋁、鋁焊盤、鋁線，適用域 新興應用。



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