在同一設備中可靈活使用遠程等離子體與熱ALD

集群式配置保證始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作可提高產能以適于量產

對材料和氣體/液體源的選擇具有更大的靈活性

等離子體ALD可進行低溫工藝

使用遠程等離子體以確保低損傷

通過配方驅動的軟件界面實現可控的和可重復的工藝

可處理高達200mm的晶圓

牛津儀器有大量的工藝儲備，并且還在不斷開發新的工藝。我們為所有的ALD設備提供延續不斷的工藝支持，我們還將為您提供關于開發新材料的建議，同時繼續與您共享包括新工藝配方在內的新的ALD工藝進展。

氣體/液體源前驅體模式上 - 一體化手套箱 —— 實時轉換

一體化端口 - 允許添加實時橢偏儀測量工具

集群式配置 - 始終于真空下傳送襯底

盒式對盒式操作 - 可提高產能以適于量產

機器手臂與片盒式 - 可處理100mm，150mm或200mm晶圓（無需額外設備進行晶圓交換）

所有系統都可以放置于超凈間內或嵌入墻體 - 易于放置

自動化的200mm晶圓真空傳送 - 工藝靈活性