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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>薄膜生長設備>物理氣相沉積設備>線列式 磁控濺射薄膜沉積系統

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線列式 磁控濺射薄膜沉積系統

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磁控濺射

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發

1.產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業的軟件控制系統。
2.設備用途:
用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。例如可用于制備各種功能性薄膜,如具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜;適用于微電子域;在光學域,可用于制備增透膜、低輻射玻璃和透明導電玻璃等;在機械加工行業中,可沉積表面功能膜、超硬膜、自潤滑薄膜等,以提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能;還可應用于高溫超導薄膜、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜等的研究。

3.真空室:
真空室結構:長方形側開門
真空室尺寸:1100X700X350mm
限真空度:≤6.0E-5Pa
沉積源:磁控靶尺寸:450X80mm、向上濺射,每個真空室配2個靶位
樣品尺寸,溫度:300X400mm;高溫度300度
占地面積(長x寬x高):約6米×3米×2米(設計待定)
電控描述:全自動
工藝:設計待定











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