NEXUS IBD-LDD 離子束沉積設備
具體成交價以合同協議為準
- 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
- 品牌 Veeco
- 型號 NEXUS IBD-LDD
- 產地 美國
- 廠商性質 經銷商
- 更新時間 2025/6/6 10:35:09
- 訪問次數 524
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1.產品概述：
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研發的離子束沉積設備，VEECCO憑借25年來在離子束產品域建立導地位，實現當下無缺陷的EUV掩模空白。
2.產品工藝：
光掩模制造需要高水平的顆粒控制，同時沉積復雜的多層薄膜結構。Veeco的NexusIBD-LDD離子束沉積系統可以應對這一挑戰。自1990年代以來，Veeco已成功服務于光掩模市場，多年的學習造就了當先進的系統。IBD-LDD系統是當EUV掩模坯料上的鉬（Mo）和硅（Si）多層沉積和釕（Ru）封端層沉積的理想選擇，以及其他需要低缺陷水平和先進薄膜的掩模應用。
3.產品優勢：
經過生產驗證的平臺
低的缺陷密度
優異的均勻性和可重復性
高反射率
在同一腔室中沉積多種材料
可以集成到其他過程模塊中，集成到集群工具中
采購中心
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