FJL560 高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統

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產品標簽

沈陽科儀磁控濺射離子束

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公司介紹 主營產品

深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項，軟件著作權 14 項，是創新型中小企業、科技型中小企業、規模以上工業企業。

展開

冷熱臺，快速退火爐，光刻機，納米壓印、磁控濺射，電子束蒸發

1.產品概述：

高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業先的軟件控制系統，用于納米單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

2.產品工藝：

真空室結構:圓筒形上升蓋

真空室尺寸:φ550x450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉積源:磁控靶3套，φ2英寸；

四工位轉靶1套；

樣品尺寸，溫度:φ2英寸，6片。高可以到達800℃

占地面積（長x寬x高）:約3米×1.1米×2米

電控描述:全自動控制

工藝:片內膜厚均勻性：≤±3%

濺射源：考夫曼離子源 Kaufman 2套，φ2英寸