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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>有掩模光刻機> Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

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Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

具體成交價以合同協議為準
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OAI光刻機

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FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學博士共同創辦的德國公司。基于 Science is international”的想法,“全球協同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家,科學開創美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域,始終秉承“前沿、專業、科學”的宗旨,將前沿技術引進到協同實驗室。我們的產品覆蓋了微納加工制程;材料科學的檢測、分析;生命科學成像,腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商,FIRSTNANO具有全球技術視野、優質供應體系、以及嚴格的質量管控系統,能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛,其中包括消費電子、航空、航天、醫藥技術、半導體行業、光電子行業、高校和研究機構。

在成長的過程中,我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港(中華區)公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。

我們真誠邀請業內英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢想揚帆起航!

 

 

 

 

 

半導體儀器和電子產品耗材耗材

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機

在半導體行業,OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗,以專為研發及半自動生產設計的光刻設備,應對動態市場日益增長的挑戰。800E 型基于經實踐驗證的 OAI 模塊化平臺打造,是一套增強型、高性能、高分辨率光刻系統,在該價格段性價比高。對準器搭載 OAI 優良光束光學技術,良好均勻性。借助 OAI 精密光刻模塊可實現升級,800E 型成為實驗室或現場適用的多功能工具。它采用 Windows 10 控制及配方存儲功能,還配備操縱桿控制的對準和光學載臺,可配置非接觸式三點楔效應校正及自動對準功能。這些特性組合常見于更昂貴的掩模對準器,而 800E 型以實惠價格即可提供 。


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標準正面特性

  • 配備雙 100 萬像素分辨率的千兆以太網(GIGE)CCD 相機

  • 可處理最大 8 英寸見方的基板,掩模最大為 9 英寸 ×9 英寸

  • 由帶配方存儲功能的 Windows 電腦控制

  • 電動操縱桿用于對準和定位

  • 曝光模式:真空、硬接觸、軟接觸和接近式

  • 自動楔效應補償

標準背面特性

  • 包含上述所有正面特性,另加:

  • 額外配備 2 個相機(共 4 個)

  • 數字變焦功能

  • 電動背面光學聚焦

標準背面特性

半自動正面對準背面對準優良光束光學系統2相機和4相機版本多種可選配置

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機


Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機規格參數

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機







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