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化工儀器網>產品展廳>半導體行業專用儀器>光刻及涂膠顯影設備>有掩模光刻機> Model 6020 全自動掩模曝光機

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Model 6020 全自動掩模曝光機

具體成交價以合同協議為準

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聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!


 

FIRSTNANO成立于2012年,一家由三位材料學博士共同創辦的德國公司。基于 Science is international”的想法,“全球協同實驗室”成為三位博士追逐的夢想。

公司愿景是從科學家到科學家,科學開創美好未來。

FIRSTNANO深耕于半導體技術、材料科學、生命科學等科研領域,始終秉承“前沿、專業、科學”的宗旨,將前沿技術引進到協同實驗室。我們的產品覆蓋了微納加工制程;材料科學的檢測、分析;生命科學成像,腦科學與行為認知等相關領域。作為全球科技前沿的儀器供應商,FIRSTNANO具有全球技術視野、優質供應體系、以及嚴格的質量管控系統,能為客戶提供前沿的技術解決方案。

公司服務的客戶領域廣泛,其中包括消費電子、航空、航天、醫藥技術、半導體行業、光電子行業、高校和研究機構。

在成長的過程中,我們腳踏實地、奮勇向前。自2015年香港(中華區)公司成立以來,我們一相繼在香港、深圳、上海和武漢設立了分支機構。

我們真誠邀請業內英才加入FIRSTNANO TEAM,一起為夢想揚帆起航!

 

 

 

 

 

半導體儀器和電子產品耗材耗材

Model 6020 全自動掩模曝光機

Model 6020 全自動掩模曝光機

6020 型是一款針對先布線型面板級*封裝(PLP)及大尺寸玻璃面板曝光市場需求而設計的大面積全自動生產型掩模對準器或自動泛光曝光系統。該系統采用 OAI *的光束光學技術,配備 1KW-8KW 功率的紫外光源,光束尺寸覆蓋 12 英寸 ×12 英寸至 20 英寸 ×20 英寸,提供均勻度≤3%-5% 的光束。在掩模對準模式下,系統可實現≤2.0μm 的光刻分辨率。


頂面 / 底面對準

高吞吐量

1 千瓦–8 千瓦準直光束光源,光束尺寸從 12 平方英寸到 20 平方英寸

光源光束均勻性達 3-5%

用于自動對準的高速編碼器和電機

SECS/GEM 通信協議兼容性


多種面板處理能力

12 平方英寸到 20 平方英寸的面板

可選分步卡盤,用于子面板加工

14 平方英寸到 24 平方英寸的掩模插入件

楔形效應調平

工藝重復性

<2.0 微米的印刷分辨率

遠程診斷


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關鍵特性

  • 高精度對準系統:可選配 Smart cam 高分辨率 CCD 相機系統,結合 OAI 圖案識別軟件,實現精確的頂面自動對準和便捷操作。

  • 靈活的基板處理能力:支持從超薄到超厚及鍵合面板等多種基板厚度,基板卡盤具備 XYZ 軸及 θ 角運動功能,含步進功能,可處理整版或拼接在大面板上的子面板。

  • 自動化集成方案:采用機器人上下料系統,可獨立運行或與光刻膠處理設備集成。

  • 工藝穩定性保障:OAI 6020 系列在性能、可靠性和重復性方面優秀表現,是先布線型面板級封裝生產及大面積玻璃面板曝光的理想選擇。


Model 6020 全自動掩模曝光機


Model 6020 全自動掩模曝光機規格參數

Model 6020 全自動掩模曝光機





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