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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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Solaris Eclipse快速退火爐系統SS
快速退火爐系統SS
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 Solaris Eclipse
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2025-07-01 20:34:03瀏覽次數:1810

聯系我們時請說明是化工儀器網上看到的信息,謝謝!

【簡單介紹】
應用領域 電子/電池
快速退火爐系統SSI是一個簡單穩定的熱處理系統,適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結構的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導體、陶瓷等等)。
【詳細說明】

 

美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達到200mm,溫度可以達到1200攝氏度,處理過程可以在真空環境或者惰性氣體的環境中執行,做多可支持4~6路進氣,可以用到的氣體包含N2O2N2H2ArH2

- 處理時間:0.1秒至無*;

- 燈管數量及功率:13支,

- 腔體冷卻:風冷方式;

- 襯底冷卻:氮氣吹掃;

- 工藝氣路:MFC控制,多6 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)

應用領域:

快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

硅化 (Silicidation);

擴散 (Diffusion);

化合物半導體退火 (Compound Semiconductor Annealing);

離子注入后退火 (Implant Annealing);

電極合金化 (Contact Alloying);

晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);

 



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