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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

環(huán)氧樹脂

光學(xué)試劑

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    耗材

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
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    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來城A棟
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    共計(jì) 2 條產(chǎn)品信息

    產(chǎn)品圖片 產(chǎn)品名稱
    mr-NIL212FC-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL212FC 系列
    mr-NIL212FC-100nm納米壓印光刻膠 mr-NIL212FC 系列
    簡(jiǎn)單介紹:光刻膠mr-NIL212FC 系列——專為高精度軟紫外納米壓印設(shè)計(jì)的革命性解決方案
    產(chǎn)品核心優(yōu)勢(shì):
    快速固化技術(shù)(FC):專為 200 nm 以下微細(xì)結(jié)構(gòu) 優(yōu)化,即使低強(qiáng)度紫外光源(如 LED)也能實(shí)現(xiàn)高效固化,顯著提升生產(chǎn)效率。
    Excellence刻蝕穩(wěn)定性:相比標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)(mr-NIL210),對(duì) SiO? 等難刻蝕基材 的兼容性更強(qiáng),圖案轉(zhuǎn)移精度更高。
    PDMS 印章最佳搭
    產(chǎn)品型號(hào):mr-NIL212FC-100nm   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-02
    參考價(jià):面議 詢價(jià)留言
    mr-NIL212FC德國(guó)納米壓印光刻膠
    mr-NIL212FC德國(guó)納米壓印光刻膠
    簡(jiǎn)單介紹:高分辨率:支持 <100 nm 結(jié)構(gòu)壓印(如mr-NIL212FC可實(shí)現(xiàn)200nm柱陣列)。
    量產(chǎn)適配:
    UV-NIL:室溫低壓(<100 mbar),適合大面積和連續(xù)生產(chǎn)(R2R)。
    T-NIL:熱塑性/熱固性 可選,平衡效率與穩(wěn)定性。
    工藝靈活性:
    可搭配 LOR 光刻膠實(shí)現(xiàn)金屬納米結(jié)構(gòu)剝離(Lift-off)。
    通過 SiPOL 硅含量樹脂實(shí)現(xiàn)圖案放大,用于深槽刻蝕。
    產(chǎn)品型號(hào):mr-NIL212FC   所在地:武漢市   更新時(shí)間:2025-07-02
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