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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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4008800298
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洪山區珞獅南路147號未來城A棟
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2035/2050/2075/2100光刻膠SU-8 2000
光刻膠SU-8 2000
參考價 面議
具體成交價以合同協議為準
  • 型號 2035/2050/2075/2100
  • 品牌 其他品牌
  • 廠商性質 代理商
  • 所在地 北京市

更新時間:2025-07-01 20:53:38瀏覽次數:2754

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【簡單介紹】
供貨周期 一個月 規格 100ML/250ML/500ML/1L
應用領域 電子/電池 主要用途 改善涂層性能,更快干燥以提高產量,垂直側壁
SU-8 2000是一種高對比度,基于環氧的光致抗蝕劑,設計用于微加工和其他微電子應用,需要厚,化學和熱穩定的圖像。 SU-8 2000是SU-8的改進配方,多年來已被MEMS生產商廣泛使用。使用更快干燥,極性更大的溶劑系統可改善涂層質量并提高工藝產量。 SU-8 2000有十二種標準粘度。通過單道涂覆工藝可以實現0.5至> 200微米的膜厚。使膜的暴露的和隨后熱交聯的部分不溶于液體顯影劑。
【詳細說明】

為了獲得大的過程可靠性,在涂覆SU-8 2000抗蝕劑之前,基材應清潔干燥。 為了獲得很好的結果,應使用食人魚濕法蝕刻(使用H2SO4和H2O2)清潔基材,然后用去離子水沖洗。

基材也可以使用反應離子蝕刻進行清潔

(RIE)或任何裝有氧氣的桶式灰燼。 通常不需要粘合促進劑。 對于包括電鍍的應用,建議使用MCC Primer 80/20(HMDS)對基材進行預處理。

涂層

SU-8 2000抗蝕劑有十二種標準粘度。 本加工指南文件涉及四種產品:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050和SU-82075。圖1。

提供選擇合適的SU-8 2000抗蝕劑和旋轉條件以實現所需膜厚所需的信息。

推薦節目

1.)為基板直徑的每英寸(25毫米)分配1ml的抗蝕劑。

2.)以100 rpm /秒的加速度在500 rpm下旋轉5-10秒。

3.)以300 rpm /秒的速度在2000 rpm下旋轉30秒。



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