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邁可諾技術(shù)有限公司

主營(yíng)產(chǎn)品: 美國(guó)Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂?jī)x

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)

等離子去膠機(jī)

超聲波清洗機(jī)

原子層沉積系統(tǒng)

光學(xué)膜厚儀

探針臺(tái)

壓片機(jī)/液壓機(jī)

制樣機(jī)

接觸角測(cè)角儀

手持式表面分析儀

干冰清洗機(jī)

注射泵

顯微鏡檢測(cè)系統(tǒng)

程序剪切儀

光學(xué)試劑

環(huán)氧樹脂

韓國(guó)波導(dǎo)樹脂

鈣鈦礦材料

光刻膠

  • 碳紙
  • 防潮箱

    馬弗爐

    培養(yǎng)箱

    蠕動(dòng)泵

    熱循環(huán)儀

    離心機(jī)

    手套箱

    天平

    鍵合機(jī)

    紫外交聯(lián)儀

    膜厚監(jiān)測(cè)儀

    離子濺射儀

    攪拌脫泡機(jī)

    橢偏儀

    自動(dòng)涂膜器

    分光光度計(jì)

    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

    晶圓片

    密度測(cè)試儀

    臨界點(diǎn)干燥儀

    光譜儀

    太陽(yáng)光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過(guò)濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測(cè)量單元

    太陽(yáng)能電池IV測(cè)試系統(tǒng)

    太陽(yáng)模擬器

    LED測(cè)量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測(cè)試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    耗材

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來(lái)城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
    網(wǎng)址:
    www.mycro.cn
    鋪:
    http://www.mcstair.com/st119375/
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    [供應(yīng)]50mm-晶圓片
    50mm-晶圓片
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2025-02-21 09:28:28
    有效期:
    2025年2月21日--2026年2月21日
    已獲點(diǎn)擊:
    264
    【簡(jiǎn)單介紹】晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片,由于其形狀為圓形,故稱為晶圓;在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu),而成為有特定電性功能的IC產(chǎn)品。
    【詳細(xì)說(shuō)明】

    50mm

    請(qǐng)見下表生產(chǎn)級(jí)與測(cè)試級(jí)晶圓片標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格。我們將竭誠(chéng)提供符合您所有需要的晶圓片。

    直徑

    50 +/- 0.5 毫米

    種類 / 摻雜物

    P/Boron

    晶向

    < 100 > +/- 1º

    等級(jí)

    測(cè)試級(jí)

    電阻值

    1 – 100 Ω-cm

    鏡像電阻梯度

    金屬

    < 5 x E10

    原子/ 平方厘米

    厚度

    279 +/-50微米

    厚度變化

    <= 10微米

    整體平整度

     

    彎曲度

    <= 50微米

    平整度

    12 SEMI標(biāo)準(zhǔn)值

    顆粒數(shù)

    <= 20 @ >= 0.3微米

    拋光

    單面拋光或雙面拋光

    蝕刻

    單面拋光或雙面拋光



    產(chǎn)品對(duì)比 產(chǎn)品對(duì)比 二維碼 在線交流

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