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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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一、技術參數：
1.腔體材質：全鋁鋁質腔體；
2.樣品臺尺寸：處理最大直徑6英寸樣品；
3.基片加熱溫度：室溫~315℃±1℃；
4.液體源：一路高蒸氣壓液體氧化劑（H2O或H2O2），3路固體或液體金屬源；
5.可變過程壓力控制0.1至1.5Torr；
6.ALD閥：Swagelok快速高溫ALD專用閥；
7.載氣系統：N2，壓力30Psi；
8.生長模式：連續和停留沉積模式任意選擇；
9.控制系統：16位7英寸彩色觸摸屏PLC操作控制；
10.4個世偉洛克熱敏ALD閥門；
11.5個高溫劑量容積填充閥；
12.帶輔助彎頭加熱器的保形加熱套，操作溫度室溫至150℃；
13.帶閥門的50ccSS前體瓶，波紋管密封高溫兼容閥;
14.Fujikin金屬密封，200sccmMFC流量質量控制器，用于N2或Ar吹掃流量控制；
15.基于雙溫探頭的腔室加熱器控制系統和探頭故障保險；
16.OEM 2級旋轉葉片泵，抽速18 cfm，極限真空3mtorr，包括Flomblin用于PFPE油；
二、技術特點
精準控制：薄膜厚度可精確至亞納米級（0.1 ?/cycle），重復性誤差<1%。
高均勻性：在復雜3D結構（如納米線、多孔材料）表面實現均勻覆蓋。
低溫工藝：部分機型支持室溫至300℃以上，范圍沉積，兼容熱敏感基材（如聚合物、生物材料）。
前驅體兼容性：支持金屬有機化合物、鹵化物、等離子體增強（PEALD）等多種反應模式。
原位監測：集成石英晶體微天平（QCM）、橢偏儀或光學反射儀，實時監控薄膜生長。
三、應用領域
半導體制造：高介電材料（HfO?、Al?O?）、晶體管柵極、DRAM電容薄膜。
新能源：鋰離子電池電極包覆層、燃料電池催化劑涂層。
光電子器件：OLED封裝層、光伏器件鈍化層。
納米技術：量子點涂層、MEMS器件防水/防腐蝕膜。
生物醫療：生物傳感器表面功能化、植入器械抗菌涂層。
四、目前可以沉積的材料包括：
1）氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2
2）氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN
3）氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2
4）金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni
5）碳化物: TiC, NbC, TaC
6）復合結構材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx
7）硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS
目前可以沉積的材料包括：
1）氧化物: Al2O3, TiO2, Ta2O5, ZrO2, HfO2, SnO2, ZnO, La2O3, V2O5, SiO2,...
2）氮化物: AlN, TaNx, NbN, TiN, MoN, ZrN, HfN, GaN, ...
3）氟化物: CaF2, SrF2, ZnF2, ...
4）金屬: Pt, Ru, Ir, Pd, Cu, Fe, Co, Ni, ...
5）碳化物: TiC, NbC, TaC, ...
6）復合結構材料: AlTiNx, AlTiOx, AlHfOx, SiO2:Al, HfSiOx, ...
7）硫化物: ZnS, SrS, CaS, PbS, ...
