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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機(jī),WS1000濕法刻蝕機(jī),Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機(jī),NOVASCAN紫外臭氧清洗機(jī)

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勻膠機(jī)/勻膠旋涂儀

濕法刻蝕顯影清洗系統(tǒng)

掩膜曝光光刻機(jī)

狹縫涂布儀

烤膠機(jī)/熱板

快速退火爐

納米壓印光刻機(jī)

紫外固化機(jī)/紫外固化箱

紫外臭氧清洗機(jī)

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超聲波清洗機(jī)

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    自動(dòng)涂膜器

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    點(diǎn)膠機(jī)

    噴涂機(jī)

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    密度測試儀

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    光譜儀

    太陽光模擬器

    干燥機(jī)

    Norland膠水

    真空回流焊爐

    過濾器

    切割機(jī)

    電鏡耗材

    Alconox清潔劑

    有機(jī)光伏材料

    鈣鈦礦界面材料

    Rondol擠壓機(jī)

    切割設(shè)備

    超聲波細(xì)胞粉碎機(jī)

    低溫水循環(huán)

    水浴油浴

    蒸發(fā)器

    凍干機(jī)

    剝離器

    紫外掩膜曝光系統(tǒng)

    涂布機(jī)

    恒電位儀

    源測量單元

    太陽能電池IV測試系統(tǒng)

    太陽模擬器

    LED測量系統(tǒng)

    顯微鏡

    干燥箱

    霍爾效應(yīng)測試儀

    芯片熱管理分析系統(tǒng)

    滅菌鍋

    鍍膜設(shè)備

    耗材

    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機(jī):
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號(hào)未來城A棟
    編:
    個(gè)化:
    www.mycro.net.cn
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    [供應(yīng)]FR-Basic VIS/NIR-紫外高分辨率膜厚儀
    FR-Basic VIS/NIR-紫外高分辨率膜厚儀
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時(shí)間:
    2025-04-27 10:42:22
    有效期:
    2025年4月27日--2025年10月27日
    已獲點(diǎn)擊:
    147
    【簡單介紹】品牌:希臘ThetaMetrisis
    名詞:膜厚儀 膜厚儀、測厚儀、干涉儀、厚度測量儀
    干涉儀是利用干涉原理測量光程之差從而測定有關(guān)物理量的光學(xué)儀器。兩束相干光間光程差的任何變化會(huì)非常靈敏地導(dǎo)致干涉條紋的移動(dòng),而某一束相干光的光程變化是由它所通過的幾何路程或介質(zhì)折射率的變化引起,所以通過干涉條紋的移動(dòng)變化可測量幾何長度或折射率的微小改變量,從而測得與此有關(guān)的其他物理量。
    【詳細(xì)說明】

    FR-Basic VIS/NIR基礎(chǔ)型膜厚儀(紫外/近紅外-高分辨率)光譜范圍:350-1000nm

    Α)鹵鎢光源系統(tǒng)Tungsten Halogen light source 全軟件控制的光譜范圍和輻照強(qiáng)度。

    小型光譜儀光譜范圍(350nm-1000nm),分辨精度可達(dá)3648像素, 16位級 A/D 分辨精度;配有USB通訊接口;

    光學(xué)連接器SMA 905, 光譜儀功率:110VAC/230VAC – 60Hz/50Hz.

    10mm厚度的氧化鋁面板,每英寸(25mm)間距,配有M6 (or ¼”) 口徑鉆孔,用以安裝光學(xué)部件。

    樣品放置臺(tái),配有多點(diǎn)Z軸聚焦和X-Y軸移動(dòng)調(diào)節(jié)。反射探針夾具調(diào)節(jié)范圍 (200mm – 200mm – 60mm),可在測試區(qū)域內(nèi)精準(zhǔn)調(diào)節(jié)。

    Β) FR-Monitor膜厚測試軟件系統(tǒng),

    可精確計(jì)算如下參數(shù):

    1)單一或堆積膜層的厚度;

    2)靜態(tài)或動(dòng)態(tài)模式下,單一膜層的折射率;本軟件包含了類型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫,可以有效地協(xié)助用戶進(jìn)行線下或者在線測試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率,透射率和反射率的測量,還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜,一次使用*,即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結(jié)果分析使用。

    C) 參考樣片:

    a) 經(jīng)校準(zhǔn)過的反射標(biāo)準(zhǔn)硅片;

    b) 經(jīng)校準(zhǔn)過的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片;

    c) 經(jīng)校準(zhǔn)過的帶有Si3N4/SiO2/Si特征區(qū)域的樣片;

    D) 反射光學(xué)探針

    系統(tǒng)內(nèi)嵌6組透射光探針200μm, 1組反射光探針200μm

     



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