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邁可諾技術有限公司

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公司信息

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4008800298
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洪山區珞獅南路147號未來城A棟
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[供應]PL600-EZI 紫外曝光納米壓印系統
PL600-EZI 紫外曝光納米壓印系統
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2025-06-20 09:03:02
有效期:
2025年6月20日--2025年12月21日
已獲點擊:
263
【簡單介紹】EZI UV Nanoimprint System PL600
EZI 紫外曝光納米壓印系統
EZ Imprinting推出了一款臺式獨立納米壓印系統:PL系列400/600.
EZImprinting是一種超高產率(> 99%)納米壓印光刻系統,帶有低于10納米的分辨率和一步自動釋放功能。
【詳細說明】

特點:

? 全晶圓壓印 - PL600適用于6英寸晶圓處理, PL400適用于4英寸晶圓處理

? 低于10納米分辨率,產率高達99

? 一步自動釋放功能,可防止分離過程中模具/基材損壞,使壓印產量大化

? 支持各種類型的硬模和軟模

? 可變模具和基材尺寸,靈活方便

? 可編程PLC,通過自定義參數進行過程控制,帶觸摸屏用戶界面

? 對準功能選項

? 多種工藝,適用于各種應用光學器件,顯示器,數據存儲,生物醫學器件,半導體IC,化學合成和*材料等

? 專有的紫外線固化納米壓印抗蝕劑對硬度或厚度沒有限制,并且與傳統的光刻工藝兼容

PL600

基材尺寸,6“標準(尺寸較小,形狀不規則)

印記區:  與晶圓尺寸相同。

模板尺寸  6”,4” ,2” and 1”

壓印壓力: 1 psi標準

模具/基材自動釋放: 包括 - 不需要特殊工具

紫外線曝光時間:95%強度水平下2-3分鐘

對準功能: xyztheta(精度2um



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