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邁可諾技術(shù)有限公司

主營產(chǎn)品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學(xué)凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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    公司信息

    聯(lián)人:
    鄧經(jīng)理
    話:
    4008800298
    機:
    13681069478
    真:
    址:
    洪山區(qū)珞獅南路147號未來城A棟
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    化:
    www.mycro.net.cn
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    http://www.mcstair.com/st119375/
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    [供應(yīng)]Solaris Eclipse-真空退火爐Solaris Eclipse
    Solaris Eclipse-真空退火爐Solaris Eclipse
    貨物所在地:
    北京北京市
    更新時間:
    2025-03-13 09:37:38
    有效期:
    2025年3月13日--2025年9月13日
    已獲點擊:
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    【簡單介紹】快速退火爐系統(tǒng)是一個簡單穩(wěn)定的熱處理系統(tǒng),適合于廣泛大尺寸為直徑2~8英寸的基片材料和結(jié)構(gòu)的快速熱低溫退火(RTA),(如電子級硅、鋼鐵、玻璃、單晶硅、III-V族化合物、II-VI族化合物、鍺、超導(dǎo)體、陶瓷等等)。
    【詳細說明】

     

    美國RTP系列的快速退火爐溫度均勻度≤1%,處理的大尺寸可以達到200mm,溫度可以達到1200攝氏度,處理過程可以在真空環(huán)境或者惰性氣體的環(huán)境中執(zhí)行,做多可支持4~6路進氣,可以用到的氣體包含N2O2N2H2ArH2

    - 處理時間:0.1秒至無*;

    - 燈管數(shù)量及功率:13支,

    - 腔體冷卻:風(fēng)冷方式;

    - 襯底冷卻:氮氣吹掃;

    - 工藝氣路:MFC控制,多6 (氮氣、氬氣、氧氣、氫氮混合氣等)

    應(yīng)用領(lǐng)域:

    快速熱退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);

    快速熱氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);

    快速熱氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);

    硅化 (Silicidation);

    擴散 (Diffusion);

    化合物半導(dǎo)體退火 (Compound Semiconductor Annealing);

    離子注入后退火 (Implant Annealing);

    電極合金化 (Contact Alloying);

    晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);

     



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