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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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址:
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[供應]CESx124-進口濕法刻蝕和剝離系統
CESx124-進口濕法刻蝕和剝離系統
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2025-02-21 09:28:28
有效期:
2025年2月21日--2025年8月22日
已獲點擊:
314
【簡單介紹】這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124、126、128或133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。
【詳細說明】

簡介:這款蝕刻和清潔系統專為滿足當今晶圓、光掩模和基板的前沿應用的特殊工藝需求而設計。這款高效的蝕刻和清潔系統CESx124126128133是理想選擇,可滿足不同大小尺寸的晶片、光掩模和襯底,不論是從小直徑還是非常大直徑。CESx可以配置多種工藝分配選項,Megasonic噴嘴對DI H20或化學藥品的處理分配選項;用于化學制劑的低壓噴嘴;化學加熱器和DI-H20;用于表面攪拌以加快反應的刷子,和/DI H20等。

可編程拋物線機械臂運動有助于確保均勻蝕刻。快速有效的干燥技術結合了可變的旋轉速度;可選加熱DI-H20和氮氣輔助。該系統非常安全,在接近基底之前,可以通過“漂洗至pH 盡量減少對化學物質的接觸。

 

特點:

  • 專為重要控制和安全而設計的系統。
  • 多達9x9英寸/ 300mm直徑的基板兼容性。
  • 主軸組件具有直流無刷伺服電機,可實現精確的速度控制和分度。
  • 特氟龍涂層不銹鋼臂可調節臂速度和行進位置。
  • 徑向排氣腔,用于大層流,蓋子頂部有N2進料。
  • DI-H20加熱器,用于清潔和干燥輔助。
  • 過程中包含化學相容性材料PVDF或可選的PTFE
  • 獨立式聚丙烯柜。
  • 微處理器控制功能可以在存儲器中保留三十(30)步的配方,每個配方有三十(30)步。配方和步驟的數量均可根據要求擴展。
  • 內置安全聯鎖和雙重控制。
  • 用聯鎖裝置沖洗整個工藝區域和基材的pH值,以禁止進入工藝區域并控制排放和主軸轉速直到安全。
  • 按鈕蓋打開/關閉。
  • 觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定,并帶有屏幕錯誤報告。
  • 用于化學和房屋排水的排水分流閥。
  • 設計符合SEMI S2 / S8準則。

 

技術參數:

  • 產品:蝕刻和剝離系統
  • 型號:CESx124
  • 可用機械臂:4
  • 大基板尺寸:13英寸直徑
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:高達30
  • 分配管路:12

 

主營產品:

Laurell勻膠機    

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀 

Microxact探針臺

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TRION反應離子刻蝕機

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