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邁可諾技術有限公司

主營產品: 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機

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[供應]SCS112/SCSe124/SCSe126-濕法顯影掩膜版清洗系統
SCS112/SCSe124/SCSe126-濕法顯影掩膜版清洗系統
貨物所在地:
北京北京市
更新時間:
2025-02-21 09:28:28
有效期:
2025年2月21日--2025年8月22日
已獲點擊:
77
【簡單介紹】SCS112型是一款高效率手動型的系統,專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片,針對8英寸晶圓片。SCSe124/126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案,針對10英寸晶圓片。
【詳細說明】

濕法顯影掩膜版清洗系統

手動型SCS112

SCS112型是一款高效率手動型的系統,專門設計用于在劃片或劃片后清洗晶片??赏ㄟ^施加高壓DI水射流或霧化噴嘴來清潔安裝在環(抓環)或膠片框架上的晶圓,然后使用高轉速,氮氣輔助或紅外加熱燈進行快速干燥。該系統大可處理8英寸晶圓。

功能:

  • 可處理高達8英寸的晶圓,包括未安裝的晶片以及膠帶環形和薄膜框架安裝晶片。
  • 振蕩高壓直流水,風扇射流組裝(取決于高達15002000/平方英寸 配置上)或霧化噴霧噴嘴,高效清潔。
  • 快速有效干燥的氮氣吹掃和循環結束時的氮晶片提升。
  • 微處理器控制并儲存多種配方。
  • 直流無刷主軸電機變速。
  • DI水凈化,營造無細菌系統。
  • 內置安全聯鎖和正極蓋,運行期間鎖定。

選項: 

  • 托盤,大可裝載8英寸晶片
  • 用于干燥的紅外線加熱燈
  • 消除靜電的二氧化碳再生離子器
  • 內置排氣鼓風機
  • 真空發生器

產品參數:

  • 產品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統 
  • 型號:SCS112
  • 可用機械臂:1
  • 大基板尺寸:高達8英寸的晶圓片
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:多3
  • 分配:1
  • 尺寸:26英寸寬x 21英寸深x 40英寸高
  • 重量:約200
  • 功率:220伏交流電,10安培,50/60赫茲

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手動型SCSe124

SCSe124型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案。該系統非常可靠且具有成本效益,它經過驗證,擁有各種清潔技術。SCSe124可以配置幾種不同的清潔選項,包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等??焖儆行У母稍锛夹g是結合了可變轉速和可選項加熱DI水,氮氣輔助或加熱燈。SCSe124具有微處理控制器,該控制器可調整過程參數,并儲存多達10個程序。

功能:

  • 可處理直徑高達10英寸的基板。
  • 主軸組件帶有直流無刷電機(可升級以獲得更多功能)。
  • 可調節機械臂速度和行程位置。
  • 徑向排氣腔,可實現大層流。
  • 獨立式聚丙烯腔室。
  • 微處理器可控制10個程序段。
  • 內置安全聯鎖。
  • 按鈕蓋啟動 打開/關閉。
  • 觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯誤報告。
  • 多可使用2個機械臂。

產品參數:

  • 產品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統 
  • 型號:SCSe124
  • 可用機械臂:2
  • 大基板尺寸:直徑10英寸晶圓片
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:多10
  • 分配:12

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手動型SCSe126

SCSe126型是用于光掩模,晶圓和基材的亞微米級清潔的理想解決方案。該系統非??煽壳揖哂谐杀拘б?,它經過驗證,擁有各種清潔技術。SCSe126可以配置幾種不同的清潔選項,包括高壓DI水,霧狀噴嘴,刷子,Megasonic噴嘴等等。快速有效的干燥技術是結合了可變轉速和可選項加熱DI水,氮氣輔助或加熱燈。SCSe126具有微處理控制器,該控制器可調整過程參數,并儲存多達10個程序。

功能:

  • 可處理直徑高達10英寸的基板。
  • 主軸組件帶有直流無刷電機(可升級以獲得更多功能)。
  • 可調節機械臂速度和行程位置。

     徑向排氣腔,可實現大層流。

     獨立式聚丙烯腔室。

     微處理器可控制10個程序段。

     內置安全聯鎖。

     按鈕蓋啟動 打開/關閉。

     觸摸屏圖形用戶界面(GUI),易于編程和安全鎖定以及屏幕錯誤報告。

     多可使用4個機械臂。

?產品參數:

  • 產品:晶圓,光掩膜和基板清潔系統 
  • 型號:SCSe126
  • 可用機械臂:4
  • 大基板尺寸:直徑10英寸晶圓片
  • 大主軸速度:2500
  • 配方:多10
  • 分配:12


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