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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀
核心技術配置
1.沉積性能
沉積室：直徑8英寸，高度14英寸，支持基板尺寸最大4英寸。
真空系統：緊湊型渦輪泵（80-90 L/s），基礎壓力低至10??–10?? Torr，確保無污染的清潔環境。
2.電源與磁控管
可編程500W濺射電源或RF發生器（120-300W），配備自動匹配網絡。
支持水冷磁控管（尺寸1"、2"、3"），最多可安裝3個1英寸磁控管，支持平衡/非平衡磁控配置。
3.過程控制
石英晶體微天平：實時監測薄膜厚度與沉積速率。
基板加熱：旋轉式基板架，溫度可調至300°C，PID精準控制。
氣體控制：集成2條工藝氣體線路，自動化排氣系統。
自動化與智能化
1.軟件控制：通過PLASMICON控制軟件實現全自動化工藝（支持配方編程）。
2.實時監控：10英寸觸摸屏界面，實時數據采集與可視化操作。
3.擴展功能：可選配光學光譜儀，用于過程監控與質量控制。
設計優勢
1.緊湊尺寸：整機約32"（寬）×22"（深）×24"（高），適合實驗室或小型生產環境。
2.模塊化設計：靈活配置磁控管、電源及傳感器，適應多樣化的研究或生產需求。
應用場景
1.科研領域：材料表面處理、納米薄膜沉積、光學/電子器件研發。
2.工業用途：半導體、光伏、醫療設備涂層等高性能薄膜制備。
加拿大進口Plasmionique離子濺射鍍膜儀多功能、高精度的濺射沉積解決方案，適用于對薄膜質量與工藝控制要求苛刻的場景。
