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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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邁可諾技術有限公司
主營產品： 美國Laurell勻膠機,WS1000濕法刻蝕機,Cargille光學凝膠,EDC-650顯影機,NOVASCAN紫外臭氧清洗機 |
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表面顆粒的去除可以調整化學試劑的配方成分，使得襯底表面存在zui少量的顆粒。化學配比系統設計了zui小的化學試劑的消耗，它提供了程序化的混合方式使化學試劑在襯底表面*均勻的分布。這個設計也提供了精確的化學工藝時間的控制，控制超聲波去離子水的流量，然后襯底在熱氮氛圍里旋干。
根據用戶的應用需要，某些特定選項將有助于設備去除不想要的顆粒和雜質。
具體應用 清洗功能： • 晶圓片 • 藍寶石外延片 • 晶圓框架上的芯片 • 顯示面板 • ITO膜顯示材料 • 有圖形掩膜和無圖形掩膜 • 掩膜坯料 • 薄膜式掩膜 • 接觸式掩膜 光刻處理工藝： • SPM剝離 • 光刻膠涂膜 • 光刻膠剝離工藝 刻蝕： • 金屬刻蝕（鋁，銅，鉻，鈦） 白骨化清洗： • 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液 • 紅外加熱 • 刷洗 • 兆聲雙氧水清洗 • 熱氮和甩干 | 產品特點： • 針對21英寸外徑或15x15英寸的基底 • 巨聲環境清洗艙（可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮氣） • 化學注射臂 • 帶化學噴射的可變速清洗刷 • 觸屏用戶界面 • 手動上下載 • 安全鎖和報警器 • 占地尺寸30”D x 26”W 可選配項： • 化學試劑傳送單元 • 白骨化清洗 • 臭氧發生器 • 氫化雙氧水發生器 • 高壓雙氧單元 • 硫酸氫過氧化物 • 紅外加熱 • 雙氧水循環裝置 • 機械手上下載單元 • 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統
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去膠/剝離工藝 • 帶紅外加熱的NMP滴膠 • 刷洗 • 兆聲雙氧水清洗 • 熱氮和甩干 CMP溶液清洗： • 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒 • 化學噴射臂 • 化學噴射罐 • 為前面和背面刷洗設計的特殊托盤 • 可調速的PVA清洗刷 • 可調的清洗刷/晶圓接觸壓力 • 刷式化學噴射 帶膜/不帶膜式掩膜清洗： • 全套清洗（無需更換保護膜） • 全保護膜 • 膜式掩膜清洗工藝 1) 掩膜背面清洗后
2)熱氮甩干 | |
SWC系列清洗系統
可選型號：
SWC-3000 | 標準臺式 | 兆聲清洗，N2旋干 |
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SWC-3000-C | CDU臺式 | 兆聲清洗，N2旋干，帶化學試劑分配功能 | |
SWC-3000-M | 掩膜板臺式 | 兆聲清洗（3MHz），N2旋干或者紅外燈烘干 | |
SWC-4000 | 標準立式 | 兆聲清洗，熱N2旋干化學配比，酸和溶劑分別獨立排放 | |
SWC-4000-M | 獨立的掩膜板清洗機 | 兆聲清洗，熱N2旋干 化學配比，酸和溶劑分別獨立排放 | |
SWC-4000-MP | 薄膜光刻度板清洗機 | 兆聲清洗，熱N2旋干 化學配比，酸和溶劑分別獨立排放 |
技術指標：
zui大晶園尺寸：12英寸
zui大掩膜板尺寸：6×6英寸
典型清洗時間：1分鐘
標準巨聲波頻率：1MHz
射頻電源輸出功率：60W
zui小DI水流量：1.5L/min
zui大轉速：4000RPM
系統控制：PLC程序控制
裝載和卸載：手動
氮氣烘干溫度：zui高300℃
