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當(dāng)前位置：德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)有限公司>>產(chǎn)品展示>>紫外掩膜對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
OAI 200型光刻機(jī)和紫外掩膜曝光系統(tǒng)是一種經(jīng)濟(jì)高效的高性能工具，采用行業(yè)驗(yàn)證的模塊化組件進(jìn)行設(shè)計(jì)，使OAI成為MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的ling ...
45年來(lái)，OAI始終是紫外能量測(cè)試儀器領(lǐng)域的*應(yīng)用商，其儀器用于半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)、晶圓封裝和晶圓植球行業(yè)中光刻工藝的可靠，精確校準(zhǔn)控制。Model 659是一...
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