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MCP-T380 通用便攜式電阻率儀由OAI設計與制造。操作簡便。顯示設計清晰。低電阻率測量通俗易懂。

Model 30 準直紫外光源及曝光系統由OAI設計與制造。恒定強度控制器傳感器可檢測到強度的任何變化，并立即調整燈的輸出，誤差優于 ±2% 。若有需...

Model 32 UV LED 光源由OAI設計與制造。OAI 推出第二代紫外發光二極管（UV LED）光源。我們全新的 LED 光源系列秉持著與久負盛名的汞弧...

MCP-T710 電阻儀由OAI設計與制造。借助新功能實現一鍵自動測量，自動保持和定時模式。擴展的測量范圍，10??～10?Ω。

Model 659 紫外線光強與能量計由OAI設計與制造。適用于所有晶圓步進光刻機的 659 型紫外線光強與能量計 。

Model 308 紫外線光度計由OAI設計與制造OAI 308型紫外線光度計是一款可靠的精密儀器，用于測量紫外線強度。308型適用于多種行業和應用場景，專為任...

太陽能電池高性能測試夾具由OAI設計與制造用于各類太陽能電池的可靠性測試，獨立式、多匯流條式、雙面式、無匯流條式以及切片電池測試夾具等。

太陽能功率計由OAI設計與制造連續波太陽能模擬器是用于模擬太陽光，以便對太陽能電池等相關設備進行性能測試的儀器。

CPV 聚光太陽模擬器由OAI設計與制造CPV（Concentrated Photovoltaic）即聚光光伏技術，它利用光學元件將太陽光集中到面積較小的光伏電...

集成式 IV光伏測試系統由OAI設計與制造它通過提供優化的脈沖寬度和電壓掃描速率，以匹配任何類型太陽能電池的高電容和較慢的介電響應速度。

AML 原位對準晶圓鍵合機由OAI設計與制造晶圓鍵合技術已在微系統技術（MST）、微機電系統（MEMS）、III-V 族（半導體）、集成電路（ICs）及光電子器...

AAA 標準太陽模擬器由OAI設計與制造該太陽能模擬器采用*的均勻光束光學系統，包括專有鍍膜反射鏡、濾光片和光束均勻性積分器，能夠提供高精度、準直的光束，且工作...

Model 6020 全自動掩模曝光機由OAI設計與制造用于重新分布層（RDL）面板級封裝和玻璃面板曝光的大尺寸基板生產型掩模對準器或泛光曝光系統。

Model 6000 生產型掩膜曝光機由OAI設計與制造可用于半導體、微機電系統（MEMS）、傳感器、優良晶圓級封裝（WLP）、化合物半導體、發光二極管（LED...

Model 2000 邊緣去膠紫外泛光曝光機由OAI設計與制造2000SM型可顯著減少因常規晶圓操作而產生的顆粒污染。在OAI 2000SM型和2000FL型系...

Model 800E 增強型半自動紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造在半導體行業，OAI 擁有 40 余年產品研發和制造經驗，以專為研發及半自動生產設計的光刻設備...

Model 212 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造一種用于大面積基板的低成本研發工具。這是一款多功能工具，既能適配較小尺寸的基板和掩模，也能輕松升級以處理更大...

Model 200 紫外掩膜曝光機由OAI設計與制造OAI 系統能夠處理各種常規形狀和不規則形狀的多種基板。高效光源在多種光譜范圍內可提供均勻的紫外線曝光。

45年來，OAI始終是紫外能量測試儀器領域的*應用商，其儀器用于半導體、微機電系統、晶圓封裝和晶圓植球行業中光刻工藝的可靠，精確校準控制。Model 659是一...