目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325X-III-DCDCRF-SS三靶向上磁控濺射鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 能源,電子/電池,鋼鐵/金屬,汽車及零部件,電氣 | 真空腔體 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
| 樣品臺尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 | 磁控靶 | 普通永磁靶，可調(diào)角度 |
| 靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | 濺射功率 | 500W |
三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性價比磁控濺鍍設備，具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等，三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比，三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛，而且具有體積小、操作方便等優(yōu)點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備.
項目 | 明細 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH325X-DCDCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機功率 | 6KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦750℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
靶槍數(shù)量 | 3 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm，高度600mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
開啟方式 | 前面開啟 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源功率500W*2，射頻電源功率300Ｗ | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
真空計 | 電阻規(guī)真空計 | |
設備尺寸 | 1090mm×900mm×1250mm | |
設備重量 | 350kg | |
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