簡單介紹：

鹵素燈RTP退火爐是一款6寸片快速退火爐，采用革新的加熱技術，可實現真正的基底溫度測量，不需要采用傳統快速退火爐的溫度補償，溫度控制**，溫度重復性高，客戶包括國際上許多半導體公司及科研團隊，是半導體制程退火工藝的理想選擇。

技術特色：

 • 真正的基片溫度測量，無需傳統的溫度補償

• 紅外鹵素管燈加熱

• 極其優異的加熱溫度**性與均勻性

• 快速數字PID溫度控制

• 不銹鋼冷壁真空腔室

• 系統穩定性好

• 結構緊湊，小型桌面系統

• 帶觸摸屏的PC控制

• 兼容常壓和真空環境，真空度標準值為5×10-3Torr，采用二級分子泵真空度低至5×10-6Torr

• *高3路氣體（MFC控制）

• 沒有交叉污染，沒有金屬污染

真實基底溫度測量技術介紹:

如上圖，由陣列式鹵素燈輻射出熱量經過石英窗口到達樣品表面，樣品被加熱，傳統的快速退火爐采用熱電偶進行測量基片溫度，由于熱電偶與基片有一定距離，測量的不是基片真實的溫度，必須進行溫度補償。

  采用專用的一根片狀的Real T/C KIT進行測溫，如上圖，接觸測溫儀與片狀Real T/C KIT相連，工作時片狀Real T/C KIT位于樣品上方很近的位置，陣列式鹵素燈輻射出熱量經過石英窗口到達樣品表面，樣品被加熱，片狀Real T/C KIT同時被加熱，由于基片與Real T/C KIT很近，它們之間也會進行熱量傳遞，并很快達到熱平衡，所以片狀Real T/C KIT測量的溫度就無限接近基片真實的溫度，從而實現基片溫度的真實測量。

技術參數：