目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> 單靶直流磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 1-5萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬 |
簡單介紹：
該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
詳情介紹：
單靶直流磁控濺射鍍膜儀經過緊湊化設計，實現了體積與性能的平衡，造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制，內置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
單靶為一支強磁靶，所配電源為 1臺1500W 直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備。
鍍膜儀配有一路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配渦輪分子泵組，極限真空可達 1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
規格參數：
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 | ||
樣品臺 | 外形尺寸 | Φ360mm |
可調轉速 | 1-20rpm可調 | |
磁控靶槍 | 靶材平面 | 圓形平面靶 |
濺射真空 | 0.1Pa～3Pa | |
靶材直徑 | 100～101.6mm | |
靶材厚度 | 3mm | |
絕緣電壓 | >2000V | |
電纜規格 | SL-16 | |
靶頭溫度 | ≦65℃ | |
真空腔體 | 內壁處理 | 電解拋光 |
腔體尺寸 | Φ500mm × 500mm | |
腔體材料 | 304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 石英窗口，直徑φ100mm | |
開啟方式 | 側面開啟 | |
氣體控制 | 流量控制 | 質量流量計，量程0～100SCCM |
氣體種類 | 可選氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體 | |
調節閥類型 | 電磁調節閥 | |
調節閥靜止狀態 | 常閉 | |
測量線性度 | ±1.5%F.S | |
測量重復精度 | ±0.2%F.S | |
測量響應時間 | ≤8秒（T95） | |
工作壓差范圍 | 0.3MPa | |
閥體耐壓 | 3MPa | |
工作環境溫度 | （5～45）℃ | |
閥體材料 | 不銹鋼316L | |
閥體漏率 | 1×10-8Pa.m3/s | |
管道接頭 | 1/4″卡套接頭 | |
輸入輸出信號 | 0～5V | |
供電電源 | ±15V（±5%）（＋15V 50mA, －15V 200mA） | |
外形尺寸mm | 130（寬）×102（高）×28（厚） | |
通訊接口 | RS485 MODBUS協議 | |
直流電源 | 電源功率 | 1500W |
膜厚測量 | 電源要求 | DC:5V（±10%） *大電流 400mA |
分辨率 | ±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /測量(鋁) | |
測量精度 | ±0.5%厚度+1計數 | |
測量周期 | 100mS～1S/次（可設置） | |
測量范圍 | 500,000 ? (鋁) | |
晶體頻率 | 6MHz | |
通訊接口 | RS-232/485串行接口 | |
顯示位數 | 8位LED顯示 | |
分子泵 | 分子泵抽速 | 1200L/S |
額定轉速 | 24000rpm | |
振動值 | ≦0.1um | |
啟動時間 | 5min | |
停機時間 | 7min | |
冷卻方式 | 水冷+風冷 | |
冷卻水溫度 | ≦37℃ | |
冷卻水流速 | 1L/min | |
安裝方向 | 垂直±5° | |
抽氣接口 | 150CF | |
排氣接口 | KF40 | |
前級泵 | 抽氣速率 | VRD-16 |
極限真空 | 1Pa | |
供電電源 | AC:220V/50Hz | |
電機功率 | 400W | |
噪音 | ≦56db | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF25 | |
閥門 | 閘板閥 | 真空腔體與分子泵間裝有閘板閥 |
切斷閥 | 分子泵與前級之間裝有切斷閥 | |
旁抽閥 | 真空腔體與前級之間裝有旁抽閥 | |
放氣閥 | 真空腔體上裝有電磁放氣閥 | |
整機極限真空 | ≦5×10-4Pa | |
測試靶材 | 直徑4英寸厚度3mm的鎳靶材1塊 | |
1
化工儀器網