往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀是一款緊湊高效的實驗室級鍍膜設備，采用磁控濺射技術，可在真空環境下實現金屬、合金、氧化物等多種材料的均勻鍍膜。其小型化設計適合科研院所、高校實驗室及企業研發中心，滿足小樣品鍍膜需求，兼顧高精度、操作便捷和低成本的特點。

往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀適用范圍：  

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控鍍膜儀與同類設備相比，經過小型化設計，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

單靶磁控鍍膜儀核心特點

1.    小巧高效

o    桌面式設計，節省空間，適合實驗室環境，無需復雜安裝。

o    快速抽真空系統，縮短實驗準備時間。

2.    單靶磁控濺射

o    支持1種靶材（如Au、Ag、Ti、ITO等），鍍膜純凈，附著力強。

o    可調節濺射功率、氣壓和沉積時間，實現膜厚可控（納米至微米級）。

3.    廣泛兼容性

o    適用于硅片、玻璃、聚合物等多種基材。

o    可選配加熱基片臺，提升膜層致密性。

4.    用戶友好

o    觸摸屏或PC控制，參數可視化，操作簡單。

o    模塊化設計，便于維護和靶材更換。

• 單靶磁控鍍膜儀技術參數：