UPS三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體膜，陶瓷膜，介電膜，光學膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 與同類設備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優點，是實驗室制備材料膜的理想設備。

磁控鍍膜儀的典型實用案例，涵蓋科研、工業及教學領域，體現其多功能性和廣泛應用價值：

 1. 科研領域——納米光學薄膜制備

·         應用場景：某高校光學實驗室利用Au靶（金靶）在玻璃基片上沉積納米級金薄膜，用于表面等離子體共振（SPR）傳感器研究。
優勢：

·         膜厚可控（10~200nm），均勻性高（±3%），確保光學性能穩定。

·         真空環境避免氧化，獲得高純度納米金膜。

2. 電子行業——透明導電薄膜（ITO）鍍膜

·         應用場景：柔性電子企業使用ITO靶（氧化銦錫）在PET塑料基材上鍍制透明導電層，用于觸摸屏電極。
優勢：

·         低功率濺射（RF模式）避免基材熱損傷，膜層電阻≤100 Ω/sq。

·         桌面型設備節省空間，適合小批量試產。

3. 材料改性——刀具硬質涂層（TiN）

·         應用場景：機械加工實驗室在高速鋼刀具表面鍍TiN（氮化鈦）涂層，提升耐磨性。
工藝要點：

·         通入氮氣反應濺射，形成金黃色TiN膜，硬度達2000 HV。

·         基片加熱至300°C，增強膜基結合力。

 4. 教學演示——磁控濺射原理實驗

·         應用場景：大學材料學院開設《薄膜技術》課程，學生用Al靶（鋁靶）在硅片上鍍膜，觀察沉積速率與氣壓的關系。
教學價值：

·         直觀展示真空鍍膜流程，幫助學生理解濺射機理。

·         小型設備安全易操作，適合分組實驗。

 5. 新能源——太陽能電池電極（Ag）

·         應用場景：光伏研究所用Ag靶（銀靶）在硅片背面鍍制電極，減少接觸電阻。
效果：

·         高導電銀膜（電阻率<2 μΩ·cm）提升電池轉換效率。

·         靶材利用率＞70%，降低實驗成本。

UPS三靶磁控濺射鍍膜機技術參數  ：