目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325G-II-DCDC-SS帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀
| 參考價(jià) | ￥ 286000 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
| ￥286000 |
| ≥1臺(tái) |
更新時(shí)間：2025-08-05 16:36:14瀏覽次數(shù)：38評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
本設(shè)備為帶過渡艙型雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。
設(shè)備配有兩支磁控靶，兩套直流電源，可用于鍍多層導(dǎo)電金屬膜。同時(shí)設(shè)備具有主腔室和過渡艙兩部分，過渡艙配有磁力推桿，兩個(gè)艙室之間裝有真空閘板閥；用戶可以在主腔室進(jìn)行濺射工作的同時(shí)，在過渡艙裝填樣品，并進(jìn)行真空預(yù)抽，待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺(tái)。這樣的設(shè)計(jì)能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù)，不僅能有效節(jié)省時(shí)間，更能保證更好的本地真空，有效提高鍍膜質(zhì)量。
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH325G-II-DCDC-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 6.5KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺(tái) | 外形尺寸 | φ150mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
控溫精度 | ±1℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 靶材尺寸 | 直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm |
冷卻模式 | 循環(huán)水冷 | |
水流大小 | 不小于10L/Min | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | 直徑φ325mm，高度500mm |
腔體材質(zhì) | SUU304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 直徑φ100mm | |
過渡腔體 | 150x150x150mm | |
開啟方式 | 頂開式 | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
真空系統(tǒng) | 配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 配直流電源500W*2 | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
設(shè)備尺寸 | 1200mm×1200mm×2000mm | |
設(shè)備重量 | 450kg | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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