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目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180X-I-DC-SS桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

  • 桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
  • 桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
  • 桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
參考價 98000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
98000
≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 CYKY
  • 型號 CY-MSZ180X-I-DC-SS
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2025-08-05 16:02:23瀏覽次數:40評價

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產地類別 國產 價格區間 5萬-10萬
應用領域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件
本設備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備

本設備為桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。  

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設置帶擋板的石英觀察窗,便于實驗的觀察記錄;腔體設計真空性能優良,造型小巧,十分適合實驗室使用。  

設備采用下置靶設計,和上置靶相比這種設計能夠更好的規避屏蔽罩因長時間鍍膜而產生的薄膜碎片脫落的問題,可以更有效的保護樣品。  

同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。  

桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀
 

單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:  


產品名稱

桌面型下置靶不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜

產品型號

CY-MSZ180X-I-DC-SS

樣品臺

外形尺寸

φ100mm

加熱溫度

≦500℃

可調轉速

≦20rpm

磁控靶槍

配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm

真空腔體

腔體尺寸

φ180mm X 215mm

觀察窗口

全向透明

腔體材料

SUU304不銹鋼

開啟方式

上頂開式

真空系統

前級泵

低噪音雙極旋片泵

分子泵

低噪音大抽速渦輪分子泵

真空測量

復合真空計,量程:10-5~105Pa

抽氣接口

KF16

抽氣接口

KF40

排氣接口

KF16

系統真空

1.0×10-4Pa

供電電源

AC 220V 50/60Hz

抽氣速率

分子泵抽速600L/s,前級抽速1.1L/s  

電源配置

電源數量

直流電源一套

輸出功率

300W

其他參數

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

2kW

整機尺寸

550mm X 350mm X400mm

 





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