目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180PX-I-DC-Q桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價格區(qū)間 | 1-5萬 |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
本設(shè)備為桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀,可用于一般金屬薄膜的制備。設(shè)備同時配有偏壓電源,可以用來進(jìn)行進(jìn)行濺射前的等離子清洗和濺射過程中施加偏壓。
本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄,腔體設(shè)計(jì)開啟方便,易于清理,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。
磁控鍍膜儀典型應(yīng)用:
• 科研領(lǐng)域:納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。
• 電子行業(yè):半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。
• 教學(xué)演示:材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例,涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域,體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價值:
產(chǎn)品名稱 | 桌面型偏壓單靶磁控濺射鍍膜儀 | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ180PX-I-DC-Q | |
樣品臺 | 外形尺寸 | φ100mm |
加熱溫度 | ≦500℃ | |
可調(diào)轉(zhuǎn)速 | ≦20rpm | |
磁控靶槍 | 配一支兩英寸磁控靶,靶材尺寸:直徑50.8mm,厚度≦3mm | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 215mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 前級泵 | 低噪音雙極旋片泵 |
分子泵 | 低噪音大抽速渦輪分子泵 | |
真空測量 | 復(fù)合真空計(jì),量程:10-5~105Pa | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
系統(tǒng)真空 | 1.0×10-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 分子泵抽速600L/s,前級泵抽速1.1L/s | |
電源配置 | 電源數(shù)量 | 射頻電源一套 |
輸出功率500 | 500W | |
其他參數(shù) | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 2kW | |
整機(jī)尺寸 | 550mm X 350mm X400mm |
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