目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ180-I-DC-Q桌面型單靶磁控鍍膜儀
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 5萬-10萬 |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天 |
本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點(diǎn)。
磁控鍍膜儀典型應(yīng)用：
• 科研領(lǐng)域：納米材料、薄膜器件、光學(xué)涂層等研究。
• 電子行業(yè)：半導(dǎo)體、傳感器、導(dǎo)電薄膜制備。
• 教學(xué)演示：材料科學(xué)、真空技術(shù)實(shí)驗(yàn)教學(xué)。
• 以下是磁控鍍膜儀的典型實(shí)用案例，涵蓋科研、工業(yè)及教學(xué)領(lǐng)域，體現(xiàn)其多功能性和廣泛應(yīng)用價(jià)值：
技術(shù)規(guī)格：
桌面型單靶磁控鍍膜儀 | ||
產(chǎn)品型號 | CY-MSZ180-I-DC-Q | |
樣品臺 | 尺寸 | φ100mm |
加熱 | *高500℃ | |
轉(zhuǎn)速 | 0-20可調(diào) | |
磁控濺射靶 | 數(shù)量 | 2" x1 |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ180mm X 215mm |
觀察窗口 | 全向透明 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
開啟方式 | 上蓋拆卸式 | |
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | 旋片泵 |
分子泵 | 渦輪分子泵 | |
真空測量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF16 | |
極限真空 | 1.0E-4Pa | |
供電電源 | AC 220V 50/60Hz | |
抽氣速率 | 機(jī)械泵1.1L/s 分子泵600L/s | |
電源配置 | 數(shù)量 | 直流電源 x1 |
*大輸出功率 | 直流電源300W | |
其他 | 供電電壓 | AC220V,50Hz |
整機(jī)功率 | 2kW | |
整機(jī)尺寸 | 550mm X 350mm X400mm | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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