3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀是一種三頭1"射頻等離子體磁控濺射系統，設計用于非金屬薄膜涂層，主要用于多層氧化物薄膜。緊湊型磁控濺射鍍膜儀是研究新一代氧化薄膜*具成本效益的涂膜機。可根據金屬薄膜沉積要求選擇直流磁控濺射，可配置3個直流、1個射頻/ 2個直流和2個射頻/ 1個直流濺射頭。

緊湊型磁控濺射鍍膜儀應用領域：  

這款緊湊型3靶磁控濺射鍍膜機專為在氧化物單晶基板上涂覆氧化物薄膜而設計，通常不需要高真空設置。  

3靶緊湊型磁控濺射鍍膜儀技術規格：  

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