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目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH325X-DCDCRF-SS三靶向上磁控濺射鍍膜儀

三靶向上磁控濺射鍍膜儀

  • 三靶向上磁控濺射鍍膜儀
  • 三靶向上磁控濺射鍍膜儀
  • 三靶向上磁控濺射鍍膜儀
參考價 298000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準
298000
≥1
具體成交價以合同協議為準
  • 品牌 CYKY
  • 型號 CY-MSH325X-DCDCRF-SS
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 鄭州市
屬性

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更新時間:2025-08-05 14:40:19瀏覽次數:40評價

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產地類別 國產 價格區間 10萬-30萬
應用領域 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件
三靶向上磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

三靶向上磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的高性價比磁控濺鍍設備,具有標準化、模塊化、定制化的特點。該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介電薄膜、光學薄膜、氧化膜、硬薄膜、聚四氟乙烯薄膜等,三種靶材可以滿足多層或多層涂層的需要。與同類設備相比,三靶磁控濺射鍍膜儀不僅應用廣泛,而且具有體積小、操作方便等優點。它是實驗室制備材料薄膜的理想設備。

三靶向上磁控濺射鍍膜儀  

三靶向上磁控濺射鍍膜儀技術參數:  

 

項目  

明細  

產品型號  

CY-MSH325X-DCDCRF-SS  

供電電壓  

AC220V,50Hz  

整機功率  

6KW  

系統真空  

5×10-4Pa  

樣品臺  

外形尺寸  

φ150mm  

加熱溫度  

750℃  

控溫精度  

±1  

可調轉速  

20rpm  

磁控靶槍  

靶材尺寸  

直徑Φ50.8mm,厚度3mm  

冷卻模式  

循環水冷  

水流大小  

不小于10L/Min  

靶槍數量  

3  

真空腔體  

腔體尺寸  

直徑φ325mm,高度600mm  

腔體材質  

SUU304不銹鋼  

觀察窗口  

直徑φ100mm  

開啟方式  

前面開啟  

氣體控制  

1路質量流量計用于控制Ar流量,量程為:200SCCM  

真空系統  

配分子泵系統1套,氣體抽速600L/S  

膜厚測量  

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?  

濺射電源  

直流電源功率500W*2,射頻電源功率300  

控制系統  

CYKY自研專業級控制系統  

真空計  

電阻規真空計  

設備尺寸  

1090mm×900mm×1250mm  

設備重量  

350kg  


  




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