目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH500-1-DC-SS單靶直流磁控濺射鍍膜儀
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件 |
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，經過緊湊化設計，實現了體積與性能的平衡，造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制，內置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
單靶為一支強磁靶，所配電源為 1臺1500W 直流電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備。
直流磁控濺射鍍膜儀配有一路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配的渦輪分子泵組，極限真空可達 1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。
該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
規格參數：
單靶直流磁控濺射鍍膜儀 | ||
樣品臺 | 外形尺寸 | Φ360mm |
可調轉速 | 1-20rpm可調 | |
磁控靶槍 | 靶材平面 | 圓形平面靶 |
濺射真空 | 0.1Pa～3Pa | |
靶材直徑 | 100～101.6mm | |
靶材厚度 | 3mm | |
絕緣電壓 | >2000V | |
電纜規格 | SL-16 | |
靶頭溫度 | ≦65℃ | |
真空腔體 | 內壁處理 | 電解拋光 |
腔體尺寸 | Φ500mm × 500mm | |
腔體材料 | 304不銹鋼 | |
觀察窗口 | 石英窗口，直徑φ100mm | |
開啟方式 | 側面開啟 | |
氣體控制 | 流量控制 | 質量流量計，量程0～100SCCM |
氣體種類 | 可選氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體 | |
調節閥類型 | 電磁調節閥 | |
調節閥靜止狀態 | 常閉 | |
測量線性度 | ±1.5%F.S | |
測量重復精度 | ±0.2%F.S | |
測量響應時間 | ≤8秒（T95） | |
工作壓差范圍 | 0.3MPa | |
閥體耐壓 | 3MPa | |
工作環境溫度 | （5～45）℃ | |
閥體材料 | 不銹鋼316L | |
閥體漏率 | 1×10-8Pa.m3/s | |
管道接頭 | 1/4″卡套接頭 | |
輸入輸出信號 | 0～5V | |
供電電源 | ±15V（±5%）（＋15V 50mA, －15V 200mA） | |
外形尺寸mm | 130（寬）×102（高）×28（厚） | |
通訊接口 | RS485 MODBUS協議 | |
直流電源 | 電源功率 | 1500W |
膜厚測量 | 電源要求 | DC:5V（±10%） *大電流 400mA |
分辨率 | ±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /測量(鋁) | |
測量精度 | ±0.5%厚度+1計數 | |
測量周期 | 100mS～1S/次（可設置） | |
測量范圍 | 500,000 ? (鋁) | |
晶體頻率 | 6MHz | |
通訊接口 | RS-232/485串行接口 | |
顯示位數 | 8位LED顯示 | |
分子泵 | 分子泵抽速 | 1200L/S |
額定轉速 | 24000rpm | |
振動值 | ≦0.1um | |
啟動時間 | 5min | |
停機時間 | 7min | |
冷卻方式 | 水冷+風冷 | |
冷卻水溫度 | ≦37℃ | |
冷卻水流速 | 1L/min | |
安裝方向 | 垂直±5° | |
抽氣接口 | 150CF | |
排氣接口 | KF40 | |
前級泵 | 抽氣速率 | VRD-16 |
極限真空 | 1Pa | |
供電電源 | AC:220V/50Hz | |
電機功率 | 400W | |
噪音 | ≦56db | |
抽氣接口 | KF40 | |
排氣接口 | KF25 | |
閥門 | 閘板閥 | 真空腔體與分子泵間裝有閘板閥 |
切斷閥 | 分子泵與前級之間裝有切斷閥 | |
旁抽閥 | 真空腔體與前級之間裝有旁抽閥 | |
放氣閥 | 真空腔體上裝有電磁放氣閥 | |
整機極限真空 | ≦5×10-4Pa | |
測試靶材 | 直徑4英寸厚度3mm的鎳靶材1塊 | |
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