目錄:鄭州成越科學儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSZ254-I-DC-SS桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍
| 產地類別 | 國產 | 價格區間 | 10萬-30萬 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天 |
桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍是一種的物**相沉積設備，廣泛應用于半導體、光電子、顯示技術和表面工程等領域。該設備采用磁控濺射技術，通過磁場增強離子化效率，從而實現高質量、均勻的薄膜沉積。
高效鍍膜：采用磁控濺射技術，沉積速率高，薄膜均勻性好。
多功能應用：支持多種靶材和基材，適用于不同材料的薄膜沉積。
智能控制：配備的控制系統，實現精準的工藝參數控制。
模塊化設計：方便維護和升級，可根據需求定制各種功能模塊。
環境友好：低能耗設計，減少對環境的影響。
參數名稱 | 參數說明 | |
產品名稱 | 桌面型磁控濺射鍍膜儀下置靶槍 | |
產品型號 | CY-MSZ254-I-DC-SS | |
真空腔 | 腔體材質 | 304不銹鋼焊接而成，表面做拋光處理 |
取放模式 | 前開門方式取放樣品和靶材 | |
觀察窗 | 直徑100mm真空窗口，配有磁力擋板，防止污染 | |
樣品臺 | 樣品尺寸 | 直徑≦100mm的平面樣品均可 |
旋轉速度 | 不旋轉和旋轉型（0-30RPM）可選 | |
加熱溫度 | RT-500℃;RT-800℃;RT-1000℃可選 | |
磁控靶 | 靶槍類型 | 普通永磁靶，可調角度 |
靶材尺寸 | 直徑2英寸，厚度≦3mm, | |
濺射功率 | 300W | |
濺射方式 | 直流濺射 | |
工作真空 | 0.3-3Pa | |
電源 | 直流電源 300W *2 | |
濺射氣體 | 高純氬氣，純度99.99% | |
真空測量 | 復合真空計，電阻規+電離規，測量范圍：105-10-5Pa | |
真空獲取 | 前級泵 | 抽速 1.1L/S |
分子泵 | 抽速 600L/S | |
膜厚測量 | 通常配CYKY膜厚測量儀 | |
也可選配進口品牌，價格額外計算 | ||
外形尺寸 | 550mm*350mm*450mm | |
包裝尺寸 | 770×720*730mm | |
包裝重量 | 110 KG | |
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