目錄:鄭州成越科學(xué)儀器有限公司>>磁控濺射鍍膜儀>> CY-MSH500X-II-DCRF-SS雙靶磁控濺射鍍膜儀
| 參考價(jià) | ￥ 259800 |
| 訂貨量 | ≥1臺(tái) |
| ￥259800 |
| ≥1臺(tái) |
更新時(shí)間：2025-08-05 11:39:30瀏覽次數(shù)：33評(píng)價(jià)
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| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國(guó)產(chǎn) | 價(jià)格區(qū)間 | 10萬(wàn)-30萬(wàn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車(chē)及零部件 |
雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個(gè)靶位的實(shí)驗(yàn)室專(zhuān)用鍍膜儀，設(shè)備配有一臺(tái)直流電源，一臺(tái)射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。
磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優(yōu)點(diǎn)，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機(jī)能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定工作。本型號(hào)采用靶下置布局，樣品臺(tái)在上方，與靶面高度可通過(guò)程序**可調(diào)，并且可旋轉(zhuǎn)加熱，性能優(yōu)異。
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號(hào) | CY-MSH500X-II-DCRF-SS | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 6KW | |
極限真空度 | 5x10-4Pa | |
載樣臺(tái)參數(shù) | 尺寸 | 150mm |
高度 | 上下70mm**可調(diào) | |
加熱溫度 | ≤500℃ | |
轉(zhuǎn)速 | 1-20rpm | |
磁控濺射頭參數(shù) | 數(shù)量 | 2個(gè)2"磁控濺射頭 |
冷卻方式 | 水冷，所需流速10L/min | |
水冷機(jī)規(guī)格 | 10L/min流速的循環(huán)水冷機(jī) | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ500mm X 490mm H |
腔體材料 | 不銹鋼 | |
觀察窗口 | φ100mm | |
開(kāi)啟方式 | 前開(kāi)門(mén)式 | |
氣體流量控制器 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM Ar； | |
真空泵 | 配有一套分子泵系統(tǒng)，抽速600L/S | |
膜厚儀 | 石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀一臺(tái)，分辨率0.10 ? | |
濺射電源 | 直流電源1臺(tái)，500W，適用于制備金屬膜 射頻電源1臺(tái)，500W，適用于非金屬鍍膜 | |
操作方式 | CYKY自研專(zhuān)業(yè)級(jí)控制系統(tǒng) | |
整機(jī)尺寸 | 1090mm X 900mm X 1250mm | |
整機(jī)重量 | 350kg | |
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)
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